XS
SM
MD
LG
Equipment Information
±ÝÇüÅ×½ºÅͱâ(U Draw Test Mold for Servo Press)
ÀåºñÁ¤º¸
Equip. Info.
¿¹¾à ¹× ÀÇ·Ú
Reservation
±âº»Á¤º¸
¼³ºñ¹øÈ£
10122435
Àåºñ¸í(ÇѱÛ)
±ÝÇüÅ×½ºÅͱâ
Àåºñ¸í(¿µ¹®)
U Draw Test Mold for Servo Press
Á¦ÀÛ»ç
R&B
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
»ó¼¼Á¤º¸
Àåºñ»ç¾ç
Ư¼öÁ¦ÀÛ Àåºñ
Ȱ¿ëºÐ¾ß
U draw bending test
Àåºñ¿î¿µÀηÂ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 331-3È£
¼Ò¼Ó
ö°­´ëÇпø
¼º¸í
À±¼º¿ë
ÀüÈ­
054-279-9217
À̸ÞÀÏ
theysy@postech.ac.kr
µ¿ÀÏ/À¯»çÀåºñÁ¤º¸
Àåºñ¸í
Ãʰí¼Ó ¿ø½ÉºÐ¸®±â(Ultracentrifuge Optima XE-100)
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
Optima XE-100
¼³Ä¡Àå¼Ò
129È£
Àåºñ¸í
À¯¼¼Æ÷ ºÐ¼®±â(Accuri C6 plus System)
Á¦ÀÛ»ç
BD Biosciences
¸ðµ¨¸í
BD Accuri¢â C6 Plus
¼³Ä¡Àå¼Ò
202-1È£
Àåºñ¸í
À¯¼¼Æ÷ ºÐ¼®±â(High-end performance Flow Cytometer)
Á¦ÀÛ»ç
BD Biosciences
¸ðµ¨¸í
LSR Foretessa 4Laser
¼³Ä¡Àå¼Ò
202-1È£
Àåºñ¸í
È­¸éÇü ¾ÆÀÌÆ®·¡Ä¿ Tobii Pro Spectrum HW + SW ÆÐŰÁö(Screen-based Eye Tracker: Tobii Pro Spectrum HW + SW)
Á¦ÀÛ»ç
ÅäºñÅ×Å©³î·ÎÁöÄÚ¸®¾Æ(ÁÖ)
¸ðµ¨¸í
Tobii Pro Spectrum 600Hz
¼³Ä¡Àå¼Ò
206È£
Àåºñ¸í
ÁøÅÁ ¹è¾ç±â (SHAKING INCUBATOR)
Á¦ÀÛ»ç
ºñÀü°úÇÐ
¸ðµ¨¸í
VS-8480SR
¼³Ä¡Àå¼Ò
239È£
Àåºñ¸í
°í¾Ð½ºÆÀ¸ê±Õ±â(Autoclave ES-315)
Á¦ÀÛ»ç
TOMY
¸ðµ¨¸í
ES-315
¼³Ä¡Àå¼Ò
239È£
Àåºñ¸í
¸¶ÀÌÅ©·ÎÇ÷¹ÀÌÆ® ¸®´õ(Microplate Reader Infinite M200 NanoQuan)
Á¦ÀÛ»ç
Tecan
¸ðµ¨¸í
NanoQuant infinite M200 Pro
¼³Ä¡Àå¼Ò
281È£
Àåºñ¸í
½Ç¸®ÄÜ Ä«¹ÙÀÌµå ¹Ú½º °¡¿­·Î(SiC Box Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)¾ÆÀü°¡¿­»ê¾÷
¸ðµ¨¸í
AJ-SB1
¼³Ä¡Àå¼Ò
302È£
Àåºñ¸í
(GLOCAL)¾×üũ·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ »ï´Ü»çÁß±ØÀÚ Áú·®ºÐ¼®±â(Liquid Chromatography-Triple Quadrupole Mass Spectrometry)
Á¦ÀÛ»ç
Waters
¸ðµ¨¸í
Xevo Absolute system
¼³Ä¡Àå¼Ò
3308È£
Àåºñ¸í
°í¼Ó¿ø½ÉºÐ¸®±â(HIGH SPEED CENTRIFUGE)
Á¦ÀÛ»ç
Hanil
¸ðµ¨¸í
Supra 22K
¼³Ä¡Àå¼Ò
332È£
Àåºñ¸í
Ãʰí¼Ó ¿ø½ÉºÐ¸®±â(Ultracentrifuge Optima XE-100)
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
Optima XE-100
¼³Ä¡Àå¼Ò
332È£
Àåºñ¸í
ÀÚµ¿ ¼¼Æ÷ Ä«¿îÅÍ(Automated Cell Counter)
Á¦ÀÛ»ç
Logos Biosystems(logosbi)
¸ðµ¨¸í
LUNA-II¢â
¼³Ä¡Àå¼Ò
363È£
Àåºñ¸í
¿¬±¸¿ë »ï¾È Çö¹Ì°æ(Reseach Trinocular Microscope)
Á¦ÀÛ»ç
OLYMPUS
¸ðµ¨¸í
BX43
¼³Ä¡Àå¼Ò
383È£
Àåºñ¸í
ÃÊÀ½ÆÄ ÆÄ¼â±â(ULTRASONIC PROCESSOR)
Á¦ÀÛ»ç
SONICS
¸ðµ¨¸í
Vibra-cell VCX-500
¼³Ä¡Àå¼Ò
410È£
Àåºñ¸í
°í¼Ó¿ø½ÉºÐ¸®±â(High Speed Refrigerated Centrifuge)
Á¦ÀÛ»ç
Hanil
¸ðµ¨¸í
Supra 22K
¼³Ä¡Àå¼Ò
410È£
Àåºñ¸í
Ãʰí¼Ó ¿ø½ÉºÐ¸®±â(Ultracentrifuge Optima XE-100)
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
Optima XE-100
¼³Ä¡Àå¼Ò
410È£
Àåºñ¸í
ÃÊ°í¼º´É ÀÚµ¿ ¼¼Æ÷ºÐ¼®±â(Ultra High-End Performance Flow Cytometry System)
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
cyotoFLEX LX
¼³Ä¡Àå¼Ò
729È£
Àåºñ¸í
Á¶Á÷Åõ¸íÈ­½Ã½ºÅÛ(CLARITY-Tissue Clearing system)
Á¦ÀÛ»ç
·Î°í¹ÙÀÌ¿À½Ã½ºÅÛ
¸ðµ¨¸í
X-clarity
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC 4210È£
Àåºñ¸í
Áú·®ºÐ¼®±â°í¼º´É ¾×üũ·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ ¿ÀºñÆ®·¦Áú·®ºÐ¼®±â(High-performance Liquid Chromatography – Mass)
Á¦ÀÛ»ç
Perkin Elmer
¸ðµ¨¸í
Qsight220
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC 4307È£
Àåºñ¸í
Ź»ó¿ë ¿ø½ÉºÐ¸®±â(Benchtop Centrifuge)
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
optima MAX-XP ultracentrifuge
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3307È£]
Àåºñ¸í
Ãʼø¼ö Á¦Á¶ÀåÄ¡(Water purification system(2,3Â÷))
Á¦ÀÛ»ç
Merck Millipore
¸ðµ¨¸í
Milli-Q¢ç IQ 7015
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3307È£]
Àåºñ¸í
´ë¿ë·® ¿ø½ÉºÐ¸®±â(Large Capacity Centrifuge)
Á¦ÀÛ»ç
Hanil
¸ðµ¨¸í
Component wR
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3307È£]
Àåºñ¸í
°í¾Ð½ºÆÀ¸ê±Õ±â(Autoclave)
Á¦ÀÛ»ç
Áö½ÃÄÚ(ÁÖ)
¸ðµ¨¸í
J-NAS103
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3307È£]
Àåºñ¸í
°í¼Ó ¿ø½ÉºÐ¸®±â(High Centrifuge Avanti J-E)
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
Avanti J-E
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3307È£]
Àåºñ¸í
Ź»ó¿ë Ãʰí¼Ó ¿ø½ÉºÐ¸®(Table-top Centrifuge(Optima MAX-XP))
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
Optima MAX-XP
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3307È£]
Àåºñ¸í
Ãʰí¼Ó ¿ø½ÉºÐ¸®±â(Ultracentrifuge Optima XE-100)
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
Optima XE-100
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3307È£]
Àåºñ¸í
°í¼Ó ¿ø½ÉºÐ¸®±â(High Centrifuge Avanti J-E)
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
Avanti J-E
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3307È£]
Àåºñ¸í
(GLOCAL)°ø°£ Àü»çü Žħ À̵¿ ÀåÄ¡(in situ probe transfer for Spantial transcriptome analysis )
Á¦ÀÛ»ç
10xGENOMICS
¸ðµ¨¸í
Visium CytAssist
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3311È£]
Àåºñ¸í
°í¾Ð½ºÆÀ¸ê±Õ±â(Autoclave)
Á¦ÀÛ»ç
Áö½ÃÄÚ(ÁÖ)
¸ðµ¨¸í
J-NAS103
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3313È£]
Àåºñ¸í
³ÃÀå ¿ø½ÉºÐ¸®±â(Refrigerated Centrifuge)
Á¦ÀÛ»ç
Eppendorf
¸ðµ¨¸í
Centrifuge 5920R
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3313È£]
Àåºñ¸í
ºÐ±¤±¤µµ°è(Spectrophotometer(UV))
Á¦ÀÛ»ç
Eppendorf
¸ðµ¨¸í
BioSpectrometer¢ç fluorescence
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3313È£]
Àåºñ¸í
´ë·® À¯¾× ±â¹Ý ´ÜÀϼ¼Æ÷ ÀÚµ¿ºÐ¼®±â(Chromium Single Cell)
Á¦ÀÛ»ç
10x Genomics
¸ðµ¨¸í
Chromium X
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3411È£]
Àåºñ¸í
ÀüÀÚµ¿ ´ë·® À¯¾× ±â¹Ý ºÐȹ ¹× ¶óº§¸µ ÀåÄ¡(ChChromium iX romium Single Cell)
Á¦ÀÛ»ç
10x Genomics
¸ðµ¨¸í
Chromium iX
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3411È£]
Àåºñ¸í
°í¼Ó ¿ø½ÉºÐ¸®±â(High Centrifuge Avanti J-E)
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
Avanti J-E
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [4307È£]
Àåºñ¸í
¹ÙÀÌ¿ÀºÐÀÚ À̹Ì¡ ½Ã½ºÅÛ(Biomolecular Imaging System)
Á¦ÀÛ»ç
GE Healthcare(Çö Cytiva)
¸ðµ¨¸í
Amersham Imager 600
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [4307È£]
Àåºñ¸í
°í¾Ð½ºÆÀ¸ê±Õ±â(Autoclave)
Á¦ÀÛ»ç
Áö½ÃÄÚ(ÁÖ)
¸ðµ¨¸í
J-NAS103
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [4307È£]
Àåºñ¸í
(GLOCAL)´ÜÀϼ¼Æ÷ À̹Ì¡ °ø°£ ºÐ¼® ½Ã½ºÅÛ(Ultra high-multiplexed single cell spatial analysis system)
Á¦ÀÛ»ç
Akoya Biosciences
¸ðµ¨¸í
Phenocycler-Fusion 2.0
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [4308È£]
Àåºñ¸í
Ãʼø¼ö Á¦Á¶ÀåÄ¡(Water purification system(2,3Â÷))
Á¦ÀÛ»ç
Merck Millipore
¸ðµ¨¸í
Milli-Q¢ç Q-POD¢ç
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [4313È£]
Àåºñ¸í
³ÃÀå ¿ø½ÉºÐ¸®±â(Refrigerated Centrifuge)
Á¦ÀÛ»ç
Eppendorf
¸ðµ¨¸í
Centrifuge 5920R
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [4313È£]
Àåºñ¸í
°í¾Ð½ºÆÀ¸ê±Õ±â(Autoclave)
Á¦ÀÛ»ç
Áö½ÃÄÚ(ÁÖ)
¸ðµ¨¸í
J-NAS103
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [4314È£]
Àåºñ¸í
ÁøÅÁ ¹è¾ç±â(Shaking Incubator)
Á¦ÀÛ»ç
ºñÀü°úÇÐ
¸ðµ¨¸í
VS-8480SR
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [4314È£]
Àåºñ¸í
À̵¿Çü °í¿¡³ÊÁö ÆÄÀ庯ȯ ³ª³ëÆÞ½º ·¹ÀÌÀú (Photosonus X-50 )
Á¦ÀÛ»ç
EKSPLA
¸ðµ¨¸í
Photosonus X-50
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5
Àåºñ¸í
°íÈ¿À² ½Ã·á°Ë»ö ½Ã½ºÅÛ(High throughput screening system)
Á¦ÀÛ»ç
Revvity
¸ðµ¨¸í
Fontus NGS
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5
Àåºñ¸í
´ë¿ë·® Â÷¼¼´ë¿°±â¼­¿­ºÐ¼® ½Ã½ºÅÛ(Next-Generation Sequencing system)
Á¦ÀÛ»ç
Illumina
¸ðµ¨¸í
NextSeq1000
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5
Àåºñ¸í
·¹ÀÌÀú ½Ã½ºÅÛ(Tunable Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
Amplitude
¸ðµ¨¸í
Surelite OPO
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 228È£
Àåºñ¸í
¿øÀÚ°£·Â Çö¹Ì°æ(Atomic Force Microscope (AFM))
Á¦ÀÛ»ç
Park Systems
¸ðµ¨¸í
XE7
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 228È£
Àåºñ¸í
¿¬±¸¿ë ÃÊÀ½ÆÄ ½Ã½ºÅÛ(Research Ultrasound System)
Á¦ÀÛ»ç
Verasonics
¸ðµ¨¸í
VANTAGE 256
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 228È£
Àåºñ¸í
MJP ¹æ½Ä 3D ÇÁ¸°ÅÍ(3D Printer with Multi Jetting Printing (MJP) Technology)
Á¦ÀÛ»ç
3D SYSTEMS
¸ðµ¨¸í
ProJet MJP 2500
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 232È£
Àåºñ¸í
ü¿Ü »ýü Á¶Á÷ Èû ÃøÁ¤ ÀåÄ¡(Isolated Muscle System)
Á¦ÀÛ»ç
Aurora Scientific
¸ðµ¨¸í
1500A
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 232È£
Àåºñ¸í
ÆÞ½º ·¹ÀÌÀú ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Pulsed Laser Deposition (PLD) System)
Á¦ÀÛ»ç
ÇѺû·¹ÀÌÀú
¸ðµ¨¸í
GPPA-A377
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 329È£
Àåºñ¸í
Áø°øÇÁ·Îºê½ºÅ×À̼Ç(Vacuum Chamber Probe Station)
Á¦ÀÛ»ç
MS TECH
¸ðµ¨¸í
M6VC
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 330È£
Àåºñ¸í
¹ÝµµÃ¼ ½ºÀ§Äª ½Ã½ºÅÛ(Semiconductor Switching System)
Á¦ÀÛ»ç
KEITHLEY Instruments
¸ðµ¨¸í
707B
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 330È£
Àåºñ¸í
ÀΰøÅ¾籤 ½Ã¹Ä·¹ÀÌÅÍ(Solar Simulator)
Á¦ÀÛ»ç
NEWPORT
¸ðµ¨¸í
Oriel Sol3A
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 332È£
Àåºñ¸í
µ¥½ºÅ©¿ë ½ºÅ¸ÀÏ·¯½º ´ÜÂ÷ÃøÁ¤±â(Benchtop Stylus Profilometer)
Á¦ÀÛ»ç
Bruker
¸ðµ¨¸í
DektakXT
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 332È£
Àåºñ¸í
´ÙÀÌ½Ì Àý»è±â(Automatic Dicing Saw)
Á¦ÀÛ»ç
DISCO
¸ðµ¨¸í
DAD3240
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 720-1È£
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅ͸µ ½Ã½ºÅÛ(Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
JUWON TECH
¸ðµ¨¸í
JWMSS-200XL
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 721È£
Àåºñ¸í
·¹ÀÌÀú ¿ëÁ¢ ½Ã½ºÅÛ(Laser Mould Welder)
Á¦ÀÛ»ç
È¿¼º·¹ÀÌÀú
¸ðµ¨¸í
-
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 MAKER SPACE 3(ÁöÇÏ)
Àåºñ¸í
¿öÅÍÁ¬ Àý»è±â(Abrasive Water Jet Cutter Machine)
Á¦ÀÛ»ç
OMAX
¸ðµ¨¸í
MAXIEM 1530
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 MAKER SPACE 3(ÁöÇÏ)
Àåºñ¸í
5Ãà CNC(5-axis Computerized Numerical Control (CNC))
Á¦ÀÛ»ç
ShopBot
¸ðµ¨¸í
PRSalpha
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 MAKER SPACE 4(ÁöÇÏ)
Àåºñ¸í
3Ãà CNC(3-axis Computerized Numerical Control (CNC))
Á¦ÀÛ»ç
ShopBot
¸ðµ¨¸í
PRSalpha
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 MAKER SPACE 4(ÁöÇÏ)
Àåºñ¸í
¹Ý±¸Çü ÃÊÀ½ÆÄ Æ®·£½ºµà¼­(Hemispherical ultrasonic transducer)
Á¦ÀÛ»ç
ÁÖ½Äȸ»ç ÀÌÄıâ¼ú
¸ðµ¨¸í
4K-512CH-D73.61 SR40
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 [232È£]½ÇÇè½Ç
Àåºñ¸í
±¤½ÃÆ® Çü±¤Çö¹Ì°æ(Æò¸é·¹ÀÌÀú Çö¹Ì°æ) (Light sheet fluorescence microscopy )
Á¦ÀÛ»ç
Carl Zeiss
¸ðµ¨¸í
Light Sheet 7
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5, 722È£(¹ÙÀÌ¿ÀÇコÄɾÅÍ)
Àåºñ¸í
¹ÝµµÃ¼ µð¹ÙÀ̽º ºÐ¼®±â(Semiconductor Device Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
Keysight Technologies
¸ðµ¨¸í
B1500A
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 110È£
Àåºñ¸í
¸¶±×³×Æ®·Ð ½ºÆÛÅ͸µ Àåºñ(Magnetron Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
SNTEK
¸ðµ¨¸í
SPR-5006
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 110È£
Àåºñ¸í
Bit ¿¡·¯À² Å×½ºÅÍ(Bit Error Tester)
Á¦ÀÛ»ç
TEKTRONICS INC
¸ðµ¨¸í
GB1400
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 202È£
Àåºñ¸í
½ÅÈ£¿ø ºÐ¼®±â(Signal Source Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
Ű»çÀÌÆ®Å×Å©³î·ÎÁö½ºÄÚ¸®¾Æ(ÁÖ)
¸ðµ¨¸í
E5052B
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 202È£
Àåºñ¸í
ºÐ¼®±â ¼¼Æ®(ȸ·Î¸Á ºÐ¼®±â, ½ÅÈ£ ºÐ¼®±â)(Analyzer Set (Network, UXA Signal))
Á¦ÀÛ»ç
Keysight Technologies
¸ðµ¨¸í
N5247A/N9040B
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 208È£
Àåºñ¸í
Á֯ļö È®Àå ¸ðµâ(Frequency Extender)
Á¦ÀÛ»ç
Keysight Technologies
¸ðµ¨¸í
N5295AX01
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 208È£
Àåºñ¸í
¹ÝµµÃ¼ µð¹ÙÀ̽º ºÐ¼®±â(Semiconductor Device Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
Agilent Technologies
¸ðµ¨¸í
B1500A
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 212È£
Àåºñ¸í
´ÙÃþ±âÆÇ ÀûÃþ±â(Multi-layder Press)
Á¦ÀÛ»ç
LPKF Laser & Electronics AG
¸ðµ¨¸í
Multi Press II
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 420È£
Àåºñ¸í
Àç»ý ¹èÅ͸® ÆÑ Å×½ºÆ® ½Ã½ºÅÛ(Regenerative Battery Pack Test System)
Á¦ÀÛ»ç
Chroma
¸ðµ¨¸í
Model 17020
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 420È£
Àåºñ¸í
¹èÅ͸® ¼¿ Ãæ¹æÀü Àåºñ(Battery Cell Charge/Discharge Test System)
Á¦ÀÛ»ç
Chroma
¸ðµ¨¸í
Model 17011
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 420È£
Àåºñ¸í
´ë±âÁ¶Àý¹è¾çÀÛ¾÷´ë(Modular Atmosphere Control Workstation System)
Á¦ÀÛ»ç
Don Whitley Scientific
¸ðµ¨¸í
Don Whitley Scientific A55
¼³Ä¡Àå¼Ò
PBC 362È£
Àåºñ¸í
UV-vis ºÐ±¤±¤µµ°è(UV-vis Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
PerkinElmer
¸ðµ¨¸í
Lambda 750S
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST 3194È£
Àåºñ¸í
Çï·ý °¡½º ȸ¼ö¿ë ÄÄÇÁ·¹¼­(Helium Compressor and Filtering System)
Á¦ÀÛ»ç
Bumhan
¸ðµ¨¸í
BH-AL7B
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1018È£
Àåºñ¸í
ÇÚµå ÆßÇÁ(Two Speed Lightweight Hand Pump)
Á¦ÀÛ»ç
Enerpac
¸ðµ¨¸í
P392
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1104È£
Àåºñ¸í
¹°¸®Àû Ư¼º ÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(Physical Property Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
Quantum Design
¸ðµ¨¸í
Quantum Design PPMS
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1104È£
Àåºñ¸í
Àڱ⹰¼ºÃøÁ¤ÀåÄ¡(MAGNETIC PROPERTY MEASUREMENT SYSTEM)
Á¦ÀÛ»ç
QUANTUM DESIGN
¸ðµ¨¸í
XL5
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1104È£
Àåºñ¸í
¿øÀÚ°£·Â Çö¹Ì°æ(Atomic Force Microscope (AFM))
Á¦ÀÛ»ç
Park Systems
¸ðµ¨¸í
XE7
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1139È£
Àåºñ¸í
¿ø°Ý ¸ðÅÍÇü Çï·ý Àç¾×È­ÀåÄ¡(Remote Motor Helium Reliquefier)
Á¦ÀÛ»ç
CRYOMECH
¸ðµ¨¸í
PT415
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1139È£
Àåºñ¸í
¿øÀÚ°£·Â Çö¹Ì°æ(Atomic Force Microscope (AFM))
Á¦ÀÛ»ç
Bruker
¸ðµ¨¸í
Dimension Icon with ScanAsyst
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1152È£
Àåºñ¸í
ÁÖ»çÇü ¿ÀÁ¦ ÀüÀÚÇö¹Ì°æ(Scanning Auger Electron Spectroscopy (AES) Nanoprobe)
Á¦ÀÛ»ç
ULVAC-PHI
¸ðµ¨¸í
PHI 700
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1163È£
Àåºñ¸í
Áý¼Ó À̿ºö(Focused Ion Beam (FIB))
Á¦ÀÛ»ç
SII
¸ðµ¨¸í
SMI3050SE
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1169È£
Àåºñ¸í
Rockwell °æµµ±â(Rockwell Hardness Testing Machine)
Á¦ÀÛ»ç
Akashi
¸ðµ¨¸í
Wizhard
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1188È£
Àåºñ¸í
Vickers °æµµ±â(Vickers Hardness Testing Machine)
Á¦ÀÛ»ç
Mitutoyo
¸ðµ¨¸í
HV-114
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1188È£
Àåºñ¸í
Ç¥¸é´ÜÂ÷ÃøÁ¤±â(Surface Profiler)
Á¦ÀÛ»ç
Veeco
¸ðµ¨¸í
Dektak 150
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1188È£
Àåºñ¸í
°íÁø°ø Ä«º» ÁõÂø±â(High Vacuum Carbon Coater)
Á¦ÀÛ»ç
Cressington
¸ðµ¨¸í
208carbon
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1198È£
Àåºñ¸í
°¡½ººÎ½Ä½ÃÇè±â(Gas Corrosion Test Instrument)
Á¦ÀÛ»ç
SUGA
¸ðµ¨¸í
GT-100
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1272È£
Àåºñ¸í
°íºÐÇØ´É À¯µµ °áÇÕ ÇöóÁ Áú·®ºÐ¼®±â(High Resolution Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer (HR-ICP-MS))
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
ELEMENT XR
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1304È£
Àåºñ¸í
Àû¿Ü¼± ºÐ±¤±â(Fourier-transform Infrared (FT-IR) Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Bruker
¸ðµ¨¸í
VERTEX 70
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1306È£
Àåºñ¸í
·¹ÀÌÀú À¯µµ ÇöóÁ ºÐ±¤ºÐ¼®±â(Tandem Laser-ablation Laser-induced Breakdown Spectrometer (LA-LIBS))
Á¦ÀÛ»ç
Applied Spectra
¸ðµ¨¸í
J200
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1306È£
Àåºñ¸í
»ïÁß »ç±ØÀÚ À¯µµ °áÇÕ ÇöóÁ Áú·®ºÐ¼®±â(Triple Quadrupole Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer (TQ-ICP-MS))
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
iCAP TQ
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1306È£
Àåºñ¸í
À¯µµ °áÇÕ ÇöóÁ ºÐ±¤ºÐ¼®±â(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry (ICP-OES))
Á¦ÀÛ»ç
AMETEK
¸ðµ¨¸í
Spectro Arcos
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1309È£
Àåºñ¸í
ºñµå »ùÇ÷¯(Automatic Electric Bead Sampler)
Á¦ÀÛ»ç
Malvern Instruments
¸ðµ¨¸í
Claisse TheOX
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1310È£
Àåºñ¸í
¼øÂ÷ ºÐ¼®Çü Çü±¤ X-¼± ºÐ¼®ÀåÄ¡(»ó¸éÁ¶»çÇü)(Tube-above Sequential Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Rigaku
¸ðµ¨¸í
ZSX Primus II
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1310È£
Àåºñ¸í
¼øÂ÷ ºÐ¼®Çü Çü±¤ X-¼± ºÐ¼®ÀåÄ¡(Sequential Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Rigaku
¸ðµ¨¸í
ZSX Primus
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1310È£
Àåºñ¸í
À¯µµ °áÇÕ ÇöóÁ ºÐ±¤ºÐ¼®±â(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry (ICP-OES))
Á¦ÀÛ»ç
PerkinElmer
¸ðµ¨¸í
Optima 8300
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1311È£
Àåºñ¸í
À¯µµ °áÇÕ ÇöóÁ ºÐ±¤ºÐ¼®±â(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry (ICP-OES))
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
iCAP 7000 Series
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1311È£
Àåºñ¸í
À¯µµ °áÇÕ ÇöóÁ ºÐ±¤ºÐ¼®±â(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry (ICP-OES))
Á¦ÀÛ»ç
AMETEK
¸ðµ¨¸í
Spectro Arcos
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1311È£
Àåºñ¸í
¿­·®ÃøÁ¤±â(Automatic Isoperibol Calorimeter)
Á¦ÀÛ»ç
Parr Instrument Company
¸ðµ¨¸í
6400 Calorimeter
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1316È£
Àåºñ¸í
»ïÁß »ç±ØÀÚ LC/MS/MS ½Ã½ºÅÛ(Triple Quadrupole LC/MS/MS System)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
TSQ Quantum Ultra
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1316È£
Àåºñ¸í
°í¼º´É ¾×ü Å©·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ(Ultra High Performance Liquid Chromatograph (UHPLC))
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
DIONEX UltiMate 3000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1316È£
Àåºñ¸í
°í¼º´É ¾×ü Å©·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ(Ultra High Performance Liquid Chromatograph (UHPLC))
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
DIONEX UltiMate 3000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1316È£
Àåºñ¸í
¼öÀº ºÐ¼®±â(Mercury Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
PS Analytical
¸ðµ¨¸í
Millennium System
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1328È£
Àåºñ¸í
¼öÀº ºÐ¼®±â(Mercury Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
NIC
¸ðµ¨¸í
MA-2
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1328È£
Àåºñ¸í
Áøµ¿Çü ÄŹÐ(Vibrating Cup Mill)
Á¦ÀÛ»ç
FRITSCH
¸ðµ¨¸í
Pulverisette 9
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1338È£
Àåºñ¸í
HPT-E-CAPº¹ÇÕÇÁ·¹½º(HPT-E-CAP Compound Press System)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)¸ðÀνýº
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 2022È£
Àåºñ¸í
Ź»óÇü Àý´Ü±â(Tabletop Cut-off Machine)
Á¦ÀÛ»ç
Struers
¸ðµ¨¸í
Discotom-100
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST2µ¿ 2177È£
Àåºñ¸í
ÇǷνÃÇè±â(Fatigue Testing Machine)
Á¦ÀÛ»ç
MTS
¸ðµ¨¸í
MTS Landmark Servohydraulic Test System
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST2µ¿ 2180È£
Àåºñ¸í
¸¶¿îÆÃ Àåºñ(CitoPress Mounting Equipment)
Á¦ÀÛ»ç
Struers
¸ðµ¨¸í
Citopress-30
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST2µ¿ 2185È£
Àåºñ¸í
ÀÚµ¿ ¿¬¸¶±â(Auto Polisher)
Á¦ÀÛ»ç
Struers
¸ðµ¨¸í
Tegramin-30
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST2µ¿ 2185È£
Àåºñ¸í
ÇǷνÃÇè±â(Fatigue Testing Machine)
Á¦ÀÛ»ç
MTS
¸ðµ¨¸í
MTS Landmark Servohydraulic Test System
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST2µ¿ 2187È£
Àåºñ¸í
ÇǷμö¸í½ÃÇè±â(Material Test System)
Á¦ÀÛ»ç
MTS
¸ðµ¨¸í
810 Material Test System
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST2µ¿ 2193È£
Àåºñ¸í
ÇǷνÃÇè±â(Fatigue Testing Machine)
Á¦ÀÛ»ç
MTS
¸ðµ¨¸í
MTS Landmark Servohydraulic Test System
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST2µ¿ 2195È£
Àåºñ¸í
ÇǷμö¸í½ÃÇè±â(Material Test System)
Á¦ÀÛ»ç
MTS
¸ðµ¨¸í
810 Material Test System
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3003È£
Àåºñ¸í
CASS ½ÃÇè±â(CASS Test Instrument)
Á¦ÀÛ»ç
SUGA
¸ðµ¨¸í
CAP-90V-5
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3010È£
Àåºñ¸í
º¹ÇÕ ºÎ½Ä ½ÃÇè±â(Cyclic Corrosion Tester)
Á¦ÀÛ»ç
Q-LAB
¸ðµ¨¸í
Q-FOG CCT 1100
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3011È£
Àåºñ¸í
º¹ÇÕ »çÀÌŬ ½ÃÇè±â(Cyclic Corrosion Test Chamber)
Á¦ÀÛ»ç
Ascott Analytical
¸ðµ¨¸í
CC1000iP
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3016È£
Àåºñ¸í
º¹ÇÕ ºÎ½Ä ½ÃÇè±â(Cyclic Corrosion Tester)
Á¦ÀÛ»ç
Q-LAB
¸ðµ¨¸í
Q-FOG CCT 1100
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3016È£
Àåºñ¸í
QUVÃËÁø ³»Èļº ½ÃÇè±â(QUV Accelerated Weathering Tester)
Á¦ÀÛ»ç
Q-LAB
¸ðµ¨¸í
QUV/spray
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3018È£
Àåºñ¸í
UV-vis ºÐ±¤±¤µµ°è(UV-vis Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Agilent Technologies
¸ðµ¨¸í
Cary 4000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3102
Àåºñ¸í
Áø°ø è¹ö Á¤¹Ð ºÐ¼® Àåºñ(Vacuum Chamber I-V Probing System)
Á¦ÀÛ»ç
MS TECH
¸ðµ¨¸í
MST5000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3102È£
Àåºñ¸í
¹ÝµµÃ¼ ºÐ¼®±â(Semiconductor Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
KEITHLEY Instruments
¸ðµ¨¸í
4220-PGU
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3104È£
Àåºñ¸í
Áø°ø¹è¾ç±â(Vacuum Chamber & Frame)
Á¦ÀÛ»ç
SNTEK
¸ðµ¨¸í
SPR-5004
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3147È£
Àåºñ¸í
¸¶ÀÌÅ©·ÎÇ÷¹ÀÌÆ® ¸®´õ(Multimode Microplate Reader)
Á¦ÀÛ»ç
TECAN
¸ðµ¨¸í
SPARK 10M
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3153È£
Àåºñ¸í
Çü±¤/Àα¤ ÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(Fluoroscence/Luminescence Measuring System)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
Fluoroskan Ascent FL
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3161È£
Àåºñ¸í
¹ü¿ë ÇÁ·Îºê ½Ã½ºÅÛ(Universal Measurement Probe System)
Á¦ÀÛ»ç
TERALEADER
¸ðµ¨¸í
UMP100
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3170È£
Àåºñ¸í
3D º¯ÇüÃøÁ¤½Ã½ºÅÛ(3D Deformation Analysis System)
Á¦ÀÛ»ç
GOM international AG
¸ðµ¨¸í
ARAMIS 12M
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3188È£
Àåºñ¸í
¸¸´É ½ÃÇè±â(Micro Universal Testing Machine (UTM))
Á¦ÀÛ»ç
R&B
¸ðµ¨¸í
RB 302 ML
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3188È£
Àåºñ¸í
Àڿܼ± ÆòÇ౤ Á¶»ç ½Ã½ºÅÛ(Mask Aligner and Exposure System)
Á¦ÀÛ»ç
MIDAS SYSTEM
¸ðµ¨¸í
MDA-400M
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3212È£
Àåºñ¸í
¹ÝµµÃ¼ µð¹ÙÀ̽º ºÐ¼®±â(Semiconductor Device Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
Agilent Technologies
¸ðµ¨¸í
B1500A
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3219È£
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅ͸µ ½Ã½ºÅÛ(Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
SNTEK
¸ðµ¨¸í
RSP-5000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3219È£
Àåºñ¸í
Àú¿Â ÃÊ¹ÚÆí¹Ì¼¼Àý´Ü±â(Cryoultramicrotome)
Á¦ÀÛ»ç
Leica Microsystems
¸ðµ¨¸í
MZ6
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3226È£
Àåºñ¸í
¹Ú¸·ÃøÁ¤±â(Thin Film Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
KSV INSTRUMENTS
¸ðµ¨¸í
-
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3229È£
Àåºñ¸í
ÀΰøÅ¾籤 ½Ã¹Ä·¹ÀÌÅÍ(Solar Simulator)
Á¦ÀÛ»ç
ABET Technologies
¸ðµ¨¸í
Sun 3000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3233È£
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅ͸µ ½Ã½ºÅÛ(Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
SNTEK
¸ðµ¨¸í
RSP-5000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3263È£
Àåºñ¸í
ÆÞ½º ·¹ÀÌÀú ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Pulsed Laser Deposition (PLD) System)
Á¦ÀÛ»ç
HIGGSLAB
¸ðµ¨¸í
PLD SYSTEM
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3263È£
Àåºñ¸í
ÀüÁö ¼º´É ½ÃÇè±â(Multi-cycling Battery Test System)
Á¦ÀÛ»ç
Korea Thermo-Tech
¸ðµ¨¸í
SERIES 4000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3278È£
Àåºñ¸í
´Ùä³Î Potentiostat(Multi-channel Potentiostat)
Á¦ÀÛ»ç
HS Technologies
¸ðµ¨¸í
-
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3278È£
Àåºñ¸í
ÆÞ½º ·¹ÀÌÀú ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Pulsed Laser Deposition (PLD) System)
Á¦ÀÛ»ç
COHERENT
¸ðµ¨¸í
COMPex Pro 102 F
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3282È£
Àåºñ¸í
UV-vis ºÐ±¤±¤µµ°è(UV-vis Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Agilent Technologies
¸ðµ¨¸í
Cary 5000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3306È£
Àåºñ¸í
¼öÁ÷ Àü±â·Î(Vertical Tube Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
Lenton
¸ðµ¨¸í
LTF 14/-/450
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3316È£
Àåºñ¸í
¹ÝµµÃ¼ Ư¼º ºÐ¼®±â(Semiconductor Characterization System)
Á¦ÀÛ»ç
KEITHLEY Instruments
¸ðµ¨¸í
4200
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3340È£
Àåºñ¸í
QE ÃøÁ¤±â(External and Internal Quantum Efficiency (EQE and IQE) Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
NEWPORT
¸ðµ¨¸í
Oriel IQE-200
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3340È£
Àåºñ¸í
Áø°ø ¿­ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Vacuum Thermal Evaporating System)
Á¦ÀÛ»ç
WOOSUNG HI-VAC
¸ðµ¨¸í
-
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3363È£
Àåºñ¸í
400 MHz ÇÙÀÚ±â°ø¸íºÐ±¤ºÐ¼®±â(400 MHz Nuclear Magnetic Resonance (NMR) Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Bruker
¸ðµ¨¸í
Avance 400
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3391È£
Àåºñ¸í
°í¼º´É À¯¼¼Æ÷ºÐ¼®±â(High Performance Flow Cytometer)
Á¦ÀÛ»ç
Becton Dickinson And Company
¸ðµ¨¸í
FACS Canto II
¼³Ä¡Àå¼Ò
°¡Å縯´ë ÀÇ»ý¸í°øÇבּ¸¼Ò
Àåºñ¸í
¿µ»óºÐ¼® ½Ã½ºÅÛ(Luminescent Image Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
FUJIFILM
¸ðµ¨¸í
LAS-4000
¼³Ä¡Àå¼Ò
°¡Å縯´ë ÀÇ»ý¸í°øÇבּ¸¼Ò
Àåºñ¸í
µµ¸³ Çü±¤ Çö¹Ì°æ(Fluorescence Inverted Microscope)
Á¦ÀÛ»ç
Carl Zeiss
¸ðµ¨¸í
Axio Observer A1
¼³Ä¡Àå¼Ò
°¡Å縯´ë ÀÇ»ý¸í°øÇבּ¸¼Ò
Àåºñ¸í
»ýü³» Çü±¤ºÐ±¤ ºÐ¼®±â(Automatic Multispectral In vivo Imaging)
Á¦ÀÛ»ç
CRI, INC
¸ðµ¨¸í
Maestro II
¼³Ä¡Àå¼Ò
°¡Å縯´ë ÀÇ»ý¸í°øÇבּ¸¼Ò
Àåºñ¸í
°í¼Ó ´Ü¹éÁú ¾×ü Å©·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ (FPLC)(Fast Protein Liquid Chromatography (FPLC))
Á¦ÀÛ»ç
GE Healthcare
¸ðµ¨¸í
AKTA purifier
¼³Ä¡Àå¼Ò
°¡Å縯´ë ÀÇ»ý¸í°øÇבּ¸¼Ò
Àåºñ¸í
³Ãµ¿Á¶Á÷ ÀýÆí±â(Cryocut Microtome)
Á¦ÀÛ»ç
Leica Biosystems
¸ðµ¨¸í
CM1850UV
¼³Ä¡Àå¼Ò
°¡Å縯´ë ÀÇ»ý¸í°øÇבּ¸¼Ò
Àåºñ¸í
ÀÚµ¿ ¸é¿ª ºÐ¼®±â(Automatic Immunology Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)»ç°­·¡ºêÅØ
¸ðµ¨¸í
cobas e411
¼³Ä¡Àå¼Ò
°¡Å縯´ë ÀÇ»ý¸í°øÇבּ¸¼Ò
Àåºñ¸í
Çü±¤ Çö¹Ì°æ(Fluorescence Microscope)
Á¦ÀÛ»ç
Á¦ÀÌ¿ø
¸ðµ¨¸í
Axio Zoom.V16
¼³Ä¡Àå¼Ò
°¡Å縯´ë ÀÇ»ý¸í°øÇבּ¸¼Ò
Àåºñ¸í
°í¼Ó ±¤ÇØ»óµµ ¹× À½ÆÄÇØ»óµµ ±¤ÃÊÀ½ÆÄ Çö¹Ì°æ(High speed Photoacoustic Microscopy )
Á¦ÀÛ»ç
¿ÉƼÄÚ
¸ðµ¨¸í
Opticho M¡¡
¼³Ä¡Àå¼Ò
°¡Å縯´ëÀÇ»ý¸í°øÇבּ¸¼Ò
Àåºñ¸í
5Ãà º¹ÇÕ °¡°ø±â(5-axis Computerized Numerical Control (CNC) Turning Center)
Á¦ÀÛ»ç
DMG
¸ðµ¨¸í
CTX Beta 1250 TC
¼³Ä¡Àå¼Ò
±â°è°øÀÛµ¿ 100È£
Àåºñ¸í
¹ü¿ë ¹Ð¸µ ¸Ó½Å´×¼¾ÅÍ(Universal Milling Machining Center)
Á¦ÀÛ»ç
±âÈï±â°è
¸ðµ¨¸í
KMB-U5
¼³Ä¡Àå¼Ò
±â°è°øÀÛµ¿ 100È£
Àåºñ¸í
CNC ¼öÆòÇü ¸Ó½Å´×¼¾ÅÍ(Computerized Numerical Control (CNC) Machining Center)
Á¦ÀÛ»ç
´ë¿ìÁß°ø¾÷
¸ðµ¨¸í
ACE-H50
¼³Ä¡Àå¼Ò
±â°è°øÀÛµ¿ 101È£
Àåºñ¸í
CNC ¿ÍÀ̾î ÄÆÆÃ ¸Ó½Å´×¼¾ÅÍ(Computerized Numerical Control (CNC) Wire Cut Machining Center)
Á¦ÀÛ»ç
SODICK
¸ðµ¨¸í
AL600G
¼³Ä¡Àå¼Ò
±â°è°øÀÛµ¿ 101È£
Àåºñ¸í
±Ý¼Ó ºÐ¸» 3Â÷¿ø Á¶Çü Àåºñ(Metal Additive Manufacturing Machine)
Á¦ÀÛ»ç
Concept Laser GmbH
¸ðµ¨¸í
M2 cusing SL400W
¼³Ä¡Àå¼Ò
±â°è°øÀÛµ¿ 202È£
Àåºñ¸í
À̺ÒÈ­Á¦³í ½Ä°¢±â(Xenon difluoride Etching system)
Á¦ÀÛ»ç
¢ß½ÎÀÌ¿£ÅØ
¸ðµ¨¸í
Xef2 etching system
¼³Ä¡Àå¼Ò
±â°è½ÇÇ赿 104È£
Àåºñ¸í
ÆèÅäÃÊ ÆÞ½º ·¹ÀÌÀú ½Ã½ºÅÛ(Femtosecond Pulse Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
COHERENT
¸ðµ¨¸í
Chameleon
¼³Ä¡Àå¼Ò
±â°è½ÇÇ赿 206È£
Àåºñ¸í
·¹ÀÌÀú ±¸µ¿ ±¤¿ø(Laser-driven Light Source (LSDS))
Á¦ÀÛ»ç
ENERGETIQ TECHNOLOGY
¸ðµ¨¸í
EQ-1500
¼³Ä¡Àå¼Ò
±â°è½ÇÇ赿 206È£
Àåºñ¸í
Áý¼ÓÀ̿ºö(Focused Ion Beam (FIB))
Á¦ÀÛ»ç
FEI
¸ðµ¨¸í
Nanolab G3 CX
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 105-4È£
Àåºñ¸í
¿øÀÚ°£·Â Çö¹Ì°æ(Atomic Force Microscope (AFM))
Á¦ÀÛ»ç
Veeco
¸ðµ¨¸í
Dimension 3100
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 1Ãþ 101È£
Àåºñ¸í
ÃʰíÁø°øÀú¿Â ÁÖ»çÅͳθµÇö¹Ì°æ(Ultra High Vacuum Low Temperature Scanning Tunneling Microscopy (STM))
Á¦ÀÛ»ç
Unisoku
¸ðµ¨¸í
USM 1200
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 1Ãþ 101È£
Àåºñ¸í
Áý¼ÓÀ̿ºö(Focused Ion Beam (FIB))
Á¦ÀÛ»ç
FEI
¸ðµ¨¸í
Helios 600
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 1Ãþ 104È£
Àåºñ¸í
Áý¼ÓÀ̿ºö(Focused Ion Beam (FIB))
Á¦ÀÛ»ç
FEI
¸ðµ¨¸í
Helios 650
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 1Ãþ 104È£
Àåºñ¸í
3D Ç¥¸éÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(3D Optical Surface Metrology System)
Á¦ÀÛ»ç
Leica Microsystems
¸ðµ¨¸í
DCM 3D
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 216È£
Àåºñ¸í
°í¿Â ¿­Ã³¸®·Î(High Temperature Anneal Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
ULVAC
¸ðµ¨¸í
PFS-6000-25
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 216È£
Àåºñ¸í
Á¢ÃË½Ä Ç¥¸é ´ÜÂ÷ÃøÁ¤±â(Contact Surface Profiler)
Á¦ÀÛ»ç
KLA Tencor
¸ðµ¨¸í
D-600
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 216È£
Àåºñ¸í
°í¿Â ¿­Ã³¸®·Î(High Temperature Anneal Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
ULVAC
¸ðµ¨¸í
PFS-6000-25
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 216È£
Àåºñ¸í
°¡½º Èñ¼® ½Ã½ºÅÛ(Computerized Gas Dilution System)
Á¦ÀÛ»ç
Environics
¸ðµ¨¸í
Series 4040
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 311È£
Àåºñ¸í
±¸¸é¼öÂ÷º¸Á¤ ÃʰíºÐÇØ´É ÁÖ»çÅõ°úÀüÀÚÇö¹Ì°æ(Cs Corrected High-Resolution Scanning Transmission Electron Microscope (Cs-corrected HR-STEM))
Á¦ÀÛ»ç
JEOL
¸ðµ¨¸í
JEM-2200FS
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø TEM-2200FS½Ç
Àåºñ¸í
À¯±â¹° ÁõÂø±â(Organic Molecular Beam Deposition (OMBD) & Thermal Evaporator)
Á¦ÀÛ»ç
alpha-plus
¸ðµ¨¸í
OMBD & Thermal
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
Á֯ļöÃøÁ¤±â(Universal Probe Holder)
Á¦ÀÛ»ç
MBRAUN
¸ðµ¨¸í
MB6000
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
½ºÆ®·¹½º ÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(Stress Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
FSM
¸ðµ¨¸í
500TC
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅ͸µ ½Ã½ºÅÛ(Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
SNTEK
¸ðµ¨¸í
MSS5000
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
±ØÀڿܼ± ûÁ¤ÀåÄ¡(Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)¾¾¿£µðÇ÷¯½º
¸ðµ¨¸í
Track
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
Àú¾Ð È­ÇÐÁõÂøÀåÄ¡(ÆÛ´Ï½º ŸÀÔ)(Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LP-CVD; Furnace Type))
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)À¯ÁøÅ×Å©
¸ðµ¨¸í
BJM100
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
À¯µµ°áÇÕ ÇöóÁ ½Ä°¢ ÀåÄ¡(Inductively Coupled Plasma (ICP) Etcher)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)µð¿¥¿¡½º
¸ðµ¨¸í
ICP Etcher
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
°íÀü·ù ÀÓÇöõÅÍ(High-Current Implantor)
Á¦ÀÛ»ç
Applied Materials
¸ðµ¨¸í
VIISion200
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
»ó¾Ð È­Çбâ»óÁõÂø¹ý(Atmosphere Pressure Chemical Vapor Deposition (APCVD))
Á¦ÀÛ»ç
Watkins Johnson
¸ðµ¨¸í
WJ-1000T
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
°¨±¤Á¦ Á¦°Å ÀåÄ¡(Photoresist (PR) Descum)
Á¦ÀÛ»ç
PSK
¸ðµ¨¸í
DAS-2000
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
°í¿Â¿­Ã³¸®¿ë V-ÆÛ´Ï½º(High Temperature Process V-Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
TEL
¸ðµ¨¸í
Alpha-808SD
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
½À½Ä»êÈ­¿ë V-ÆÛ´Ï½º(Wet Oxidation V-Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
TEL
¸ðµ¨¸í
Alpha-808SD
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
°Ç½Ä»êÈ­¿ë V-ÆÛ´Ï½º(Dry Oxidation V-Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
TEL
¸ðµ¨¸í
Alpha-808DN
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
ź¼Ò³ª³ëÆ©ºê ÇÕ¼º CVD(Carbon Nanotube (CNT) Synthesis Chemical Vapor Deposition (CVD))
Á¦ÀÛ»ç
¾ÆÅؽýºÅÛ
¸ðµ¨¸í
-
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
ÁßÀü·ù ÀÌ¿ÂÁÖÀÔÀåÄ¡(Medium Current Implanter)
Á¦ÀÛ»ç
Varian
¸ðµ¨¸í
E220HP
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅ͸µ ½Ã½ºÅÛ(Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
AMAT
¸ðµ¨¸í
E5500
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
¾ç¸é Á¤·Ä ³ë±¤±â(Double Side Alignment Stepper)
Á¦ÀÛ»ç
ASML
¸ðµ¨¸í
PAS550 200B
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
º¸È£¸·¿ë ÇöóÁ È­ÇÐ ±â»ó ÁõÂø±â(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD) for Passivation)
Á¦ÀÛ»ç
TES
¸ðµ¨¸í
TELIA200
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
¼öÁ÷È®»êÀü±â·Î(Vertical Pyro Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)¸®µå¿£Áö´Ï¾î¸µ
¸ðµ¨¸í
VULCAN-V81RD
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
°í¼Ó ´Ü¹éÁú ¾×ü Å©·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ (FPLC)(Fast Protein Liquid Chromatography (FPLC))
Á¦ÀÛ»ç
GE Healthcare
¸ðµ¨¸í
AKTA FPLC
¼³Ä¡Àå¼Ò
»ý¸í°øÇבּ¸¼¾ÅÍ 229È£
Àåºñ¸í
ÃʰíÇØ»óµµ smFRET STORM À̹Ì¡ Àåºñ(Super-resolution smFRET STORM imaging system)
Á¦ÀÛ»ç
ONI
¸ðµ¨¸í
Oxford Nanoimager S
¼³Ä¡Àå¼Ò
»ý¸í°øÇבּ¸¼¾ÅÍ 253È£
Àåºñ¸í
Çü±¤ À̹ÌÁö ºÐ¼®±â(Fluorescent Image Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
GE Healthcare
¸ðµ¨¸í
Amersham Typhoon
¼³Ä¡Àå¼Ò
»ý¸í°øÇבּ¸¼¾ÅÍ 281È£
Àåºñ¸í
¸¶ÀÌÅ©·ÎÇ÷¹ÀÌÆ® ¸®´õ(Multimode Plate Reader)
Á¦ÀÛ»ç
PerkinElmer
¸ðµ¨¸í
EnSpire Alpha
¼³Ä¡Àå¼Ò
»ý¸í°øÇבּ¸¼¾ÅÍ 378È£
Àåºñ¸í
ÀÚµ¿ Á¶Á÷ 󸮱â(Automatic Tissue Processor)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
Shandon Citadel 1000
¼³Ä¡Àå¼Ò
»ý¸í°øÇבּ¸¼¾ÅÍ 402È£
Àåºñ¸í
µå¶ø¼¼ÅÍ(Drop Setter for Protein Crystallization)
Á¦ÀÛ»ç
FORMULATRIX
¸ðµ¨¸í
NT8
¼³Ä¡Àå¼Ò
»ý¸í°úÇаü 204È£
Àåºñ¸í
Ãʰí¼Ó¿ø½ÉºÐ¸®±â(Ultracentrifuge)
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
Optima XE-100
¼³Ä¡Àå¼Ò
¼¼Æ÷¸·´Ü¹éÁú¿¬±¸¼Ò 310È£ °øµ¿±â±â½Ç
Àåºñ¸í
Ź»óÇüÃʰí¼Ó¿ø½ÉºÐ¸®±â(Table-Top Ultracentrifuge)
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
Optima MAX-XP
¼³Ä¡Àå¼Ò
¼¼Æ÷¸·´Ü¹éÁú¿¬±¸¼Ò 310È£ °øµ¿±â±â½Ç
Àåºñ¸í
¸ð¼Çĸó ½Ã½ºÅÛ(Motion Capture System)
Á¦ÀÛ»ç
Optitrack
¸ðµ¨¸í
OptiTrack Motion Tracking System
¼³Ä¡Àå¼Ò
ÀΰøÁö´É¿¬±¸¿ø 142È£
Àåºñ¸í
±¸¸é¼öÂ÷º¸Á¤ ÃʰíºÐÇØ´É ÁÖ»çÅõ°úÀüÀÚÇö¹Ì°æ(Cs Corrected High-Resolution Scanning Transmission Electron Microscope(Cs-corrected HR-STEM))
Á¦ÀÛ»ç
JEOL
¸ðµ¨¸í
JEM-2200FS (UHR)
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1°øÇаü 109È£
Àåºñ¸í
½ºÅ©·¡Ä¡ ½ÃÇè±â(Scratch Tester)
Á¦ÀÛ»ç
R&B
¸ðµ¨¸í
RB 311 Sketch
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1°øÇаü 206È£
Àåºñ¸í
Ç¥¸é´ÜÂ÷ÃøÁ¤±â(Alpha Step Surface Profiler)
Á¦ÀÛ»ç
KLA TENCOR CORP.
¸ðµ¨¸í
Alpha-step 500
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1°øÇаü 208È£
Àåºñ¸í
LED ÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(Wafer-level LED Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
WithLight
¸ðµ¨¸í
OPI-170
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1°øÇаü 208È£
Àåºñ¸í
¹ÝµµÃ¼ Ư¼º ºÐ¼®±â(Semiconductor Characterization System)
Á¦ÀÛ»ç
KEITHLEY Instruments
¸ðµ¨¸í
4200-SCS
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1°øÇаü 208È£
Àåºñ¸í
°Ç½Ä½Ä°¢ÀåÄ¡(Inductively Coupled Plasma (ICP) Etcher)
Á¦ÀÛ»ç
Korea Vacuum Tech
¸ðµ¨¸í
KVICP-T406530
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1°øÇаü 210È£
Àåºñ¸í
850 MHz ÇÙÀÚ±â°ø¸íºÐ±¤ºÐ¼®±â(850 MHz Nuclear Magnetic Resonance (NMR) Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Bruker
¸ðµ¨¸í
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1½ÇÇ赿 108È£
Àåºñ¸í
500 MHz ÇÙÀÚ±â°ø¸íºÐ±¤ºÐ¼®±â[500 MHz NMR (#2)](500 MHz Nuclear Magnetic Resonance (NMR) Spectrometer [500 MHz NMR (#2)])
Á¦ÀÛ»ç
Bruker
¸ðµ¨¸í
AVANCE III HD
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1½ÇÇ赿 110È£
Àåºñ¸í
500 MHz ÇÙÀÚ±â°ø¸íºÐ±¤ºÐ¼®±â[500 MHz NMR (#1)](500 MHz Nuclear Magnetic Resonance (NMR) Spectrometer [500 MHz NMR (#1)])
Á¦ÀÛ»ç
Bruker
¸ðµ¨¸í
AVANCE III 500
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1½ÇÇ赿 110È£
Àåºñ¸í
À¯µµ °áÇÕ ÇöóÁ Áú·®ºÐ¼®±â(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer (ICP-MS))
Á¦ÀÛ»ç
PerkinElmer
¸ðµ¨¸í
NexION-300D
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1½ÇÇ赿 318È£
Àåºñ¸í
¹æ»ç¼± µ¿À§¿ø¼Ò ¾×ü ¼¶±¤ °è¼ö±â(Liquid Scintillation Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
PerkinElmer
¸ðµ¨¸í
Tri-carb 2910TR
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1½ÇÇ赿 318È£
Àåºñ¸í
ÀúÁØÀ§ ¾×ü¼¶±¤ºÐ¼®±â(Low Activity Liquid Scintillation Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
PerkinElmer
¸ðµ¨¸í
Tri-Carb 5110 TR
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1½ÇÇ赿 318È£
Àåºñ¸í
ºñÁ¢ÃË½Ä 3Â÷¿ø ½ºÄ³³Ê(Structured-light 3D Scanner)
Á¦ÀÛ»ç
Breuckmann
¸ðµ¨¸í
SmartSCAN3D-HE
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦2°øÇаü 206È£
Àåºñ¸í
DPSS ·¹ÀÌÀú(Diode-pumped Solid-state (DPSS) Laser)
Á¦ÀÛ»ç
LIGHTHOUSE PHOTONICS
¸ðµ¨¸í
Sprout-G-12W
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦2°øÇаü 504È£
Àåºñ¸í
¹ÝµµÃ¼ ·¹ÀÌÀú(Tunable Semiconductor Laser)
Á¦ÀÛ»ç
Santec
¸ðµ¨¸í
TSL-550
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 308È£
Àåºñ¸í
¹ÝÀÚµ¿ ¿ÍÀÌ¾î º»´õ(Semi Automatic Wire Bonder)
Á¦ÀÛ»ç
TPT
¸ðµ¨¸í
HB16
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 308È£
Àåºñ¸í
°íÈ¿À² À̹Ì¡ ½Ã½ºÅÛ(Electron Multiplying Charge-Coupled Device (EMCCD))
Á¦ÀÛ»ç
Andor
¸ðµ¨¸í
iXon DU-897
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 006È£
Àåºñ¸í
¹ü¿ë ¹Ð¸µ ¸Ó½Å´×¼¾ÅÍ(Universal Milling Machining Center)
Á¦ÀÛ»ç
±âÈï±â°è
¸ðµ¨¸í
KMB-U3
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 007È£
Àåºñ¸í
°íÁÖÆÄ À¯µµ °¡¿­ ¿ëÇØ·Î(High Frequency Induction Heater)
Á¦ÀÛ»ç
EMWise Communications
¸ðµ¨¸í
-
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 105È£
Àåºñ¸í
Á֯ļö ºÐ¼®±â(Spectrum Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
Agilent Technologies
¸ðµ¨¸í
E4402B
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 105È£
Àåºñ¸í
±Ø¹Ì±¤ °ËÃâ Ä«¸Þ¶ó(Intensified Charged Coupled Device (ICCD))
Á¦ÀÛ»ç
Princeton Instruments
¸ðµ¨¸í
PI-MAX4-1024i
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 105È£
Àåºñ¸í
´õºí ¸ð³ë Å©·Î ¸ÞÀÌÅÍ(Double monochromator)
Á¦ÀÛ»ç
Teledyne Princeton Instruments
¸ðµ¨¸í
HRS-300
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 105È£
Àåºñ¸í
´ÙÀÌ¿Àµå ·¹ÀÌÀú Á¶Àý±â(Digital Controller for Diode Lasers)
Á¦ÀÛ»ç
Toptica Photonics
¸ðµ¨¸í
DLC pro
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 402È£
Àåºñ¸í
ÆèÅäÃÊ ÆÞ½º ·¹ÀÌÀú ½Ã½ºÅÛ(Femtosecond Pulse Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
COHERENT
¸ðµ¨¸í
Chameleon
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 502AÈ£
Àåºñ¸í
´Ù¸ñÀû ¹Ú¸· Ç¥¸é±¸Á¶ ºÐ¼® ¿øÀÚ Çö¹Ì°æ Àåºñ(Muti-purpose Atomic Force Microscope (AFM) System)
Á¦ÀÛ»ç
Bruker
¸ðµ¨¸í
MultiMode 8
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 529È£
Àåºñ¸í
32ä³Î ³úÆÄ ÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(32-Channel Electroencephalogram (EEG) Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
LAXTHA
¸ðµ¨¸í
LXE3232-RF
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦4°øÇаü 005È£
Àåºñ¸í
ÀÎÀå ½ÃÇè±â(Flex Test Controller)
Á¦ÀÛ»ç
MTS
¸ðµ¨¸í
MTS Quotation for FlexTest 40 Controller
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 004È£
Àåºñ¸í
³ª³ë Ç¥¸é ÇÁ·ÎÆÄÀÏ·¯(Nano Surface Profiler)
Á¦ÀÛ»ç
³ª³ë½Ã½ºÅÛ¢ß
¸ðµ¨¸í
NanoScan-E1000(P)
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 206-1È£
Àåºñ¸í
Àç·á½ÃÇè±â(Nano Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
MTS
¸ðµ¨¸í
Nano UTM Testing System
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 206-1È£
Àåºñ¸í
¿øÀÚ°£·Â Çö¹Ì°æ(Atomic Force Microscope (AFM))
Á¦ÀÛ»ç
SEIKO INSTRUMENTS INC.
¸ðµ¨¸í
SPI3800N Pro
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 206-1È£
Àåºñ¸í
Á¡µµ°è(Modular Compact Rheometer)
Á¦ÀÛ»ç
Anton Paar Germany GmbH
¸ðµ¨¸í
MCR 101
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 206È£
Àåºñ¸í
¼ÒÇü ÄÄÆÄ¿îµù Àåºñ(Mini Compounder)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)½êŏŨ
¸ðµ¨¸í
Twin Screw Mixer
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 206È£
Àåºñ¸í
¸ð¼¼°üÇü°¡¿­·Î(Capillary Furnace System)
Á¦ÀÛ»ç
Malvern Instruments
¸ðµ¨¸í
Rosand RH7
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 206È£
Àåºñ¸í
Àú¿Â¿ë Àü±â/¿­Àû ¼ö¼ÛƯ¼º ÃøÁ¤ Àåºñ(A Customized Liquid Nitrogen Cryostat Sytem)
Á¦ÀÛ»ç
Lakeshore and Janis
¸ðµ¨¸í
Lakeshore 643/Janis ST-300T
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 304È£
Àåºñ¸í
»ó¿Â¿­È®»êµµÃøÁ¤Àåºñ(Flash Diffusivity Testing Apparatus)
Á¦ÀÛ»ç
ERICH NETZSCH GmbH & Co. Holdi
¸ðµ¨¸í
LFA 467
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 304È£
Àåºñ¸í
ÆÄÀå °¡º¯Çü ³ª³ëÃÊ ·¹ÀÌÀú(Tunable Wavelength Nanosecond Lasers)
Á¦ÀÛ»ç
EKSPLA
¸ðµ¨¸í
NT352
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 406È£
Àåºñ¸í
·¹ÀÌÀú À¯µµºØ±« ºÐ±¤±â(Laser-induced Breakdown Spectroscopy (LIBS))
Á¦ÀÛ»ç
Applied Spectra
¸ðµ¨¸í
Aurora LIBS module
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 423È£
Àåºñ¸í
»çÁß±ØÀÚ Áú·®ºÐ¼®±â(Quadrupole Mass Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
HIDEN ANALYTICAL
¸ðµ¨¸í
HPR-20
¼³Ä¡Àå¼Ò
Áö°î¿¬±¸µ¿ 226È£
Àåºñ¸í
Ç¥¸éÈûÃøÁ¤±â(Surface Force Apparatus (SFA))
Á¦ÀÛ»ç
SurForce LLC
¸ðµ¨¸í
SFA 2000
¼³Ä¡Àå¼Ò
Áö°î¿¬±¸µ¿ 230È£
Àåºñ¸í
Ç¥¸éÈûÃøÁ¤±â(Surface Force Apparatus (SFA))
Á¦ÀÛ»ç
SurForce LLC
¸ðµ¨¸í
SFA 2000
¼³Ä¡Àå¼Ò
Áö°î¿¬±¸µ¿ 230È£
Àåºñ¸í
µ¿Àû ±â°èÀû¹°¼º ½ÃÇè±â(Dynamic Material Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
Dynamic Systems
¸ðµ¨¸í
GLEEBLE 3500
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 142-4È£
Àåºñ¸í
Á¤¸³Çö¹Ì°æ(Upright Microscope)
Á¦ÀÛ»ç
Leica Microsystems
¸ðµ¨¸í
DM4000 M
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 144-5È£
Àåºñ¸í
´ëÇüÀý´Ü±â(Large Automatic Cut-off Machine)
Á¦ÀÛ»ç
Struers
¸ðµ¨¸í
Axitom-5
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 146-8È£
Àåºñ¸í
¸¶¿îÆÃ Àåºñ(CitoPress Mounting Equipment)
Á¦ÀÛ»ç
Struers
¸ðµ¨¸í
Citopress-20
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 146-8È£
Àåºñ¸í
Áý¼Ó À̿ºö(3Â÷¿ø-EBSD)(Focused Ion Beam (FIB; 3D-EBSD))
Á¦ÀÛ»ç
FEI
¸ðµ¨¸í
Quanta 3D FEG
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 150-2È£
Àåºñ¸í
¸ÖƼ ½ºÄÉÀÏ ¹Ì¼¼±¸Á¶ ºÐ¼® ½Ã½ºÅÛ(Multi-scale Microstructure Analysis System)
Á¦ÀÛ»ç
JEOL
¸ðµ¨¸í
Neo-ARM
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 161È£
Àåºñ¸í
À¯µµ °áÇÕ ÇöóÁ ºÐ±¤ºÐ¼®±â(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry (ICP-OES))
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
iCAP 6500 DUO
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 176È£
Àåºñ¸í
ź¼Ò/Ȳ ºÐ¼® Àåºñ(Carbon/sulfur Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
LECO
¸ðµ¨¸í
CS 844
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 178-9È£
Àåºñ¸í
µ¿Àû ±â°èÀû¹°¼º ½ÃÇè±â(Dynamic Material Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
Dynamic Systems
¸ðµ¨¸í
GLEEBLE 3500
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 242-4È£
Àåºñ¸í
ºñƲ¸² ½ÃÇè±â(Tortion Tester)
Á¦ÀÛ»ç
ACE E&C,INC.
¸ðµ¨¸í
TRA-2K
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 242-4È£
Àåºñ¸í
Ç¥¸é󸮽ýºÅÛ(Target Surfacing System)
Á¦ÀÛ»ç
Leica Microsystems
¸ðµ¨¸í
EM TXP
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 250È£
Àåºñ¸í
Áø°øÁÖÁ¶±â(Vacuum Casting Machine)
Á¦ÀÛ»ç
¢ßÄÉÀÌ¿¡ÀÌ¿¥¾ÆÀÌ
¸ðµ¨¸í
MC100V
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 272È£
Àåºñ¸í
Áø°ø-°¡¾Ð ¿ëÇØ ¹× ¿¬¼ÓÁÖÁ¶ÀåÄ¡(Vacuum-over Pressure Continuous Casting Machine)
Á¦ÀÛ»ç
¢ßÄÉÀÌ¿¡ÀÌ¿¥¾ÆÀÌ
¸ðµ¨¸í
VCC 1000 (indutherm)
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 272È£
Àåºñ¸í
°í¿ÂÀÎÀå½ÃÇè±â(High Temp Universel Testing Instrument)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
M5582
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 284È£
Àåºñ¸í
TEM¿ë À̿¹иµ½Ã½ºÅÛ(Ion Milling System for Transmission Electron Microscope (TEM))
Á¦ÀÛ»ç
¢ßÁö¿¤ÄÚÆÛ·¹À̼Ç
¸ðµ¨¸í
Gatan model 691
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 284È£
Àåºñ¸í
±Ý¼Ó ÆÇÀç ÀÎÀå¾ÐÃà½ÃÇè±â(Sheet Metal Deformation Simulator)
Á¦ÀÛ»ç
¢ß¾Ë¾Øºñ
¸ðµ¨¸í
RB319
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 312-4È£
Àåºñ¸í
¹ü¿ë ½ÃÇè±â(Universal Sheet Metal Testing Machine)
Á¦ÀÛ»ç
ERICHSEN
¸ðµ¨¸í
145-60
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 331-3È£
Àåºñ¸í
°í¼ÓÀÎÀåÃæ°Ý½ÃÇè±â(High Strain Tensile Impact Tester)
Á¦ÀÛ»ç
´ëµ¿Á¤¹Ð
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 331-3È£
Àåºñ¸í
ö¼ÕÃøÁ¤ÀåÄ¡(Electrical Steel Tester)
Á¦ÀÛ»ç
Dr. brockhaus messtechnik gmbh
¸ðµ¨¸í
MPG 100 D measuring Unit
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 374È£
Àåºñ¸í
¿­¿ªÇнùķ¹ÀÌÅÍ(Caster&Thermo-mechanical Simulator)
Á¦ÀÛ»ç
Fuji electronic Industrial
¸ðµ¨¸í
FTX-103HC-01
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 374È£
Àåºñ¸í
¾ÆÅ©¿ëÇØ·Î(Arc Melting Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
¾ÆÀ̾¾Æ¼
¸ðµ¨¸í
KHAM-500
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 374È£
Àåºñ¸í
Áø°ø ¿ëÇØÀåÄ¡(Vaccum Chamber)
Á¦ÀÛ»ç
¿¡À̽ºÀ̾ؾ¾ ÁÖ½Äȸ»ç
¸ðµ¨¸í
Ace-VIM-001
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 374È£
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅÍ / Áø°øÁõÂø ÀåÄ¡(Sputtering / Vacuum Deposition System)
Á¦ÀÛ»ç
¾ÆÀ̾¾Æ¼
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 374È£
Àåºñ¸í
°í¿Â¿­Ã³¸® Àü±â·Î(Tube Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
Lenton
¸ðµ¨¸í
Lenton 1500 PTF-15/100/610
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 380È£
Àåºñ¸í
°íÁø°ø·Î(High Vacuum Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
¿¡ÀÌÆ¼¿¡ÇÁ(ATF)
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 380È£
Àåºñ¸í
°í¼Ó°¡¿­·Î(High Temperature Rate Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
¾ÆÀ̾¾Æ¼
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 380È£
Àåºñ¸í
±Ý¼Ó Żź ¿­Ã³¸® ½Ã½ºÅÛ(Tube Type Furnace System)
Á¦ÀÛ»ç
¢ßº£½º
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 380È£
Àåºñ¸í
Áø°ø/ºÐÀ§±â ¿­Ã³¸® ÀåÄ¡(Vacuum Chamber)
Á¦ÀÛ»ç
¢ßÁö´Ï¾ÆÅØ
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 380È£
Àåºñ¸í
µ¿Àû ±â°èÀû¹°¼º ½ÃÇè±â(Dynamic Material Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
INSTRON 8801
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 416-8È£
Àåºñ¸í
ÇǷνÃÇè±â(Fatigue Testing Machine)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
INSTRON 8801
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 416-8È£
Àåºñ¸í
µ¿Àû ±â°èÀû¹°¼º ½ÃÇè±â(Dynamic Material Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
INSTRON 8801
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 416È£
Àåºñ¸í
µ¿Àû ±â°èÀû¹°¼º ½ÃÇè±â(Dynamic Material Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
INSTRON 8501
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 431-3È£
Àåºñ¸í
Àç·á½ÃÇè±â(Material Testing Machine)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
INSTRON 8862
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 431-3È£
Àåºñ¸í
¹ü¿ë Àç·á ½ÃÇè±â(Universal Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
INSTRON 3382
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 431-3È£
Àåºñ¸í
¼ö¼Ò·® ºÐ¼® ½Ã½ºÅÛ(Total Dissolved Solids (TDS) System for Hydrogen Analysis)
Á¦ÀÛ»ç
R-Dec
¸ðµ¨¸í
HTDS-003
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 435-7È£
Àåºñ¸í
¼ö¿­ÇÕ¼ºÀåºñ(500 mL Stirred Autoclave System)
Á¦ÀÛ»ç
¢ßÀϽſÀÅäŬ·¹À̺ê
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 472È£
Àåºñ¸í
UV-vis/NIR ºÐ±¤±¤µµ°è(UV-vis/NIR Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
SHIMADZU
¸ðµ¨¸í
UV-3600
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 472È£
Àåºñ¸í
SOFC ´ÜÀüÁö Àå±â¼º´É Æò°¡ÀåÄ¡(Solid Oxide Fuel Cell (SOFC) Test Station)
Á¦ÀÛ»ç
³ª¶ó¼¿ÅØ(ÁÖ)
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 480È£
Àåºñ¸í
°í¼ÓÁÖÁ¶ ÁÖÆí ³Ã°¢ ¹× ÀÀ°í simulator(Simulator for Solidification and Cooling of a Slab during High Speed Continuous Casting)
Á¦ÀÛ»ç
¢ßÄÉÀÌ¿¡ÀÌ¿¥¾ÆÀÌ
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 480È£
Àåºñ¸í
°í¿Â½ÃÂ÷Áֻ翭·®°è(High Temperature Differential Scanning Calorimeter)
Á¦ÀÛ»ç
¢ß½ÅÄÚ¿¥¾ØÆ¼
¸ðµ¨¸í
Labsys Evo DSC
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 480È£
Àåºñ¸í
IET ¸ôµåÇ÷°½º ½Ã·á Á¦Á¶ ÀåÄ¡(High Frequency Induction Furnacer)
Á¦ÀÛ»ç
¿¤ÅØ
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 480È£
Àåºñ¸í
½½·¡±×¿ëÇØ ¹× ³Ã°¢ÀåÄ¡(Slag Dissolution and Cooling System)
Á¦ÀÛ»ç
¸°Å×Å©
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 480È£
Àåºñ¸í
°¡½ººÐ¼®¿ë Áú·®ºÐ¼®±â(Residual Gas Analyser)
Á¦ÀÛ»ç
ÅäÅ»¼Ö·ç¼Ç°úÇÐ
¸ðµ¨¸í
BGM-201R
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 546È£
Àåºñ¸í
°í¿Â°¡¿­·Î(Image Furnace System)
Á¦ÀÛ»ç
ULVAC
¸ðµ¨¸í
MR-39H/D
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 546È£
Àåºñ¸í
¾ÐÃà ¹× ÀÎÀå½ÃÇè±â(Tensile Compress Test Machine)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
INSTRON 5848
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 546È£
Àåºñ¸í
µµ°¡´Ï ºÎÇÏ ½Ã½ºÅÛ(1600 ¡ÆC Furnace Crucible Leading System)
Á¦ÀÛ»ç
Lenton
¸ðµ¨¸í
LTF-16/75/610
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 546È£
Àåºñ¸í
±Þ¼Ó°¡¿­ÀåÄ¡(Infrared Gold Image Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
ÅäÅ»¼Ö·ç¼Ç°úÇÐ
¸ðµ¨¸í
VHT-E44
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 546È£
Àåºñ¸í
Àú¿Âȸȭ·Î(Low Temperature Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
Lenton
¸ðµ¨¸í
LTF-175/80/350
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 576È£
Àåºñ¸í
°íÁÖÆÄ À¯µµ °¡¿­ ¿ëÇØ·Î(High Frequency Induction Heater)
Á¦ÀÛ»ç
¿¤ÅØ
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 580È£
Àåºñ¸í
¼öÁ÷ȸȭ·Î(Vertical Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
Lenton
¸ðµ¨¸í
LTF 17/75/30
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 584È£
Àåºñ¸í
Àú¿Âȸȭ·Î(Low Temperature Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
Lenton
¸ðµ¨¸í
LTF-17/75/300
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 584È£
Àåºñ¸í
°í¿Â ¼öÁ÷ Àü±â·Î(Vertical Tube Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
Lenton
¸ðµ¨¸í
Lenton LTF-175/80/350
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 584È£
Àåºñ¸í
°í¿Â ¼öÁ÷ Àü±â·Î(Vertical Tube Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
Lenton
¸ðµ¨¸í
Lenton LTF-175/80/350
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 584È£
Àåºñ¸í
¿ëÇØ¿ë À¯µµ°¡¿­ ÀåÄ¡(Induction Heating System for Melting)
Á¦ÀÛ»ç
PSTEK
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 584È£
Àåºñ¸í
Å©¸®ÇÁ ½ÃÇè±â(Lever Arm Type Creep Tester System)
Á¦ÀÛ»ç
ats technology, Inc
¸ðµ¨¸í
Series 2320 Lever Arm Tester
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø B106È£
Àåºñ¸í
Àç·á½ÃÇè±â(Universal Materials Testing Machine)
Á¦ÀÛ»ç
zwick gmbh & co. kg
¸ðµ¨¸í
ZWICK 100KN
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
Ãæ°Ý½ÃÇè±â(Charpy Impact Tester)
Á¦ÀÛ»ç
zwick gmbh & co. kg
¸ðµ¨¸í
PSW 750
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
¿ø½ÉÁÖÁ¶±â(Sample Preparation Equipment)
Á¦ÀÛ»ç
linn high term gmbh
¸ðµ¨¸í
Lifumat-M-2000-7.7-VAC
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
ÇǷνÃÇè±â(Fatigue Testing Machine)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
MicroTester5848
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
¾ÐÃà ¹× ÀÎÀå½ÃÇè±â(Tensile Compress Test Machine)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
INSTRON 4482
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
¿°¿å·Î(Furnace Salt Bath)
Á¦ÀÛ»ç
Lenton
¸ðµ¨¸í
LSBF-10/45
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
°íÁÖÆÄ À¯µµ °¡¿­ ¿ëÇØ·Î(Vacuum Induction Melting and Casting Furnace)
Á¦ÀÛ»ç
ALD Vacuum Technologies
¸ðµ¨¸í
VIM4
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
Áø°øºÐ±¤°è(Fourier Transform Infrared)
Á¦ÀÛ»ç
Bruker
¸ðµ¨¸í
VERTEX 80v with HYPERION 2000
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
¹úÁö/FLC ½ÃÇè±â(Bulge/Forming Limit Curves (FLC) Tester)
Á¦ÀÛ»ç
ERICHSEN
¸ðµ¨¸í
Model 161
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
ÀÌÃàÀÎÀå ½ÃÇè±â(Biaxial Tensile Testing machine)
Á¦ÀÛ»ç
Kokusai Co. Ltd
¸ðµ¨¸í
KBAT-100
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
50Åæ ÇÁ·¹½º(Direct Drive Digital Servo-Press)
Á¦ÀÛ»ç
Hoden seimitsu kako kenkyusho
¸ðµ¨¸í
MPS8300DS
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
ºñÇ¥¸éÀû ºÐ¼®±â(Automated Surface Area&Pore Size Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
Chunwoo America, Inc
¸ðµ¨¸í
NOVA 1000e
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
¼öÀº ±â°ø·ü ÃøÁ¤ÀåÄ¡(Automated Mercury Porosimeter)
Á¦ÀÛ»ç
Chunwoo America, Inc
¸ðµ¨¸í
PM-33-15
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
¸¶ÂûƯ¼º Æò°¡ÀåÄ¡(Friction Tester)
Á¦ÀÛ»ç
(À¯)Á¾·Î°úÇлó»ç
¸ðµ¨¸í
CR-FR-CH1
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
1400 ¡ÆC ¼öÁ÷ Æ©ºê ¿­Ã³¸® Àåºñ(1400 ¡ÆC Tube furnace)
Á¦ÀÛ»ç
Lenton
¸ðµ¨¸í
LTF-14/75/610
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
¿­ Áß·® ºÐ¼®±â+½ÃÂ÷ ÁÖ»ç ¿­·®°è-Áú·® ºÐ¼®±â(TGA-DSC-MS SDT(Simultaneous DSC/TGA)-MS)
Á¦ÀÛ»ç
TA Instruments Korea
¸ðµ¨¸í
Discovery SDT 650 – Simultaneous DSC-TGA, Pfeiffer ThermoStar Quadrupole Mass Spectrometer
¼³Ä¡Àå¼Ò
ģȯ°æ¼ÒÀç´ëÇпø 184, 186È£
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅ͸µ ½Ã½ºÅÛ(Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
¾ÆÆå½º(ÁÖ)
¸ðµ¨¸í
EOS-310(Á¦ÀÛǰ)
¼³Ä¡Àå¼Ò
Æ÷Ç×°¡¼Ó±â¿¬±¸¼Ò ÀúÀ帵µ¿ 118È£
Àåºñ¸í
ÀüÀÚµ¿ÇÙ»êÃßÃâÀåÄ¡(Automated DNA/RNA Extractor)
Á¦ÀÛ»ç
QIAGEN
¸ðµ¨¸í
QIAcube-HT
¼³Ä¡Àå¼Ò
Æ÷Ç×½ÃÁö½Ä»ê¾÷¼¾ÅÍ wet-lab
Àåºñ¸í
¸¶ÀÌÅ©·Î¹°¼º½ÃÇè±â(Micro-scale mechanical test system)
Á¦ÀÛ»ç
CellScale
¸ðµ¨¸í
MicrotesterG2
¼³Ä¡Àå¼Ò
Æ÷Ç×½ÃÁö½Ä»ê¾÷¼¾ÅÍ wet-lab
Àåºñ¸í
ÀÚµ¿½½¶óÀ̵彺ij³Ê(Auto slide scanner)
Á¦ÀÛ»ç
Carl Zeiss
¸ðµ¨¸í
AxioScan 7
¼³Ä¡Àå¼Ò
Æ÷Ç×½ÃÁö½Ä»ê¾÷¼¾ÅÍ wet-lab
Àåºñ¸í
3D ¹ÙÀÌ¿ÀÇÁ¸°ÅÍ(Extrusion-based 3D Bioprinter)
Á¦ÀÛ»ç
CELLINK
¸ðµ¨¸í
BIO X
¼³Ä¡Àå¼Ò
Æ÷Ç×½ÃÁö½Ä»ê¾÷¼¾ÅÍ wet-lab
Àåºñ¸í
¼ÒÇü ¾ÆÀ½¼Ódzµ¿(Wind Tunnel)
Á¦ÀÛ»ç
Àε¥ÄÚ
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
dzµ¿µ¿ 105È£
Àåºñ¸í
´ëÇüdzµ¿(Wind Tunnel)
Á¦ÀÛ»ç
¼­¿øÇ³·Â
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
dzµ¿µ¿ 107È£
Àåºñ¸í
ȸ·ù¼öÁ¶(Circulating Water Channel)
Á¦ÀÛ»ç
¼­ÀϺ»À¯Ã¼±â¼ú¿¬±¸¼Ò
¸ðµ¨¸í
V2-30B
¼³Ä¡Àå¼Ò
dzµ¿µ¿ 107È£
Àåºñ¸í
X-ray ÃøÁ¤½Ã½ºÅÛ(X-ray Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
¸ðµÎÅ×Å©³î·¯Áö, ¿ìÁ¤ÀÇ·á±â±â
¸ðµ¨¸í
Varian A272
¼³Ä¡Àå¼Ò
dzµ¿µ¿ 108È£
Àåºñ¸í
°í¼º´É ¾×üũ·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ ¼±Çü À̿ Ʈ·¦ Áú·® ºÐ¼®±â(HPLC dual-cell linear ion trap mass spectrometer (HPLC-ESI-MS))
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
LTQ Velos Pro
¼³Ä¡Àå¼Ò
È­Çаü 112È£
Àåºñ¸í
300 MHz ÇÙÀÚ±â°ø¸íºÐ±¤ºÐ¼®±â(300 MHz Nuclear Magnetic Resonance (NMR) Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Bruker
¸ðµ¨¸í
AVANCE III 300
¼³Ä¡Àå¼Ò
È­Çаü 122È£
Àåºñ¸í
600 MHz ÇÙÀÚ±â°ø¸íºÐ±¤ºÐ¼®±â(600 MHz Nuclear Magnetic Resonance (NMR) Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Bruker
¸ðµ¨¸í
AVANCE III 600
¼³Ä¡Àå¼Ò
È­Çаü 122È£
Àåºñ¸í
´ÙÁß°ËÃâ À¯µµ°áÇÕÇöóÁ Áú·®ºÐ¼®±â(Multi-Collector Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer (MC-ICP-MS))
Á¦ÀÛ»ç
Nu Instruments Ltd
¸ðµ¨¸í
Plasma 3
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 105È£
Àåºñ¸í
À¯µµ °áÇÕ ÇöóÁ ºÐ±¤ºÐ¼®±â(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry (ICP-OES))
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
iCAP 7400
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 106È£
Àåºñ¸í
³ª³ë¼¼°ø Ư¼º ¹× BET Ç¥¸éÀû ÃøÁ¤Àåºñ(Nanoporosity & Surface Area Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)¹Ì·¡¿¡½º¾ÆÀÌ
¸ðµ¨¸í
nanoPOROSITY (BET)
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 110È£
Àåºñ¸í
°í¾Ð¿ë ºÎÇÇ½Ä ÈíÂøÀåºñ ¼ö¼Ò¿¡³ÊÁö ÀúÀå·® ÃøÁ¤ ÀÚµ¿È­ Àåºñ(Volumetric Sorption Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
Setaram
¸ðµ¨¸í
PCT Pro
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 110È£
Àåºñ¸í
Çü±¤ºÐ¼®±â(Luminometer)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Labsystems
¸ðµ¨¸í
Luminoskan Ascent
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 206-1È£
Àåºñ¸í
Çü±¤ Çö¹Ì°æ(Fluorescence Microscope)
Á¦ÀÛ»ç
Carl Zeiss
¸ðµ¨¸í
Axiolab
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 206-1È£
Àåºñ¸í
¹Ì·® Ȳ °ËÃâ±â(Trace Sulfur Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
Mitsubishi Chemical Analytech
¸ðµ¨¸í
NSX-2100V
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 206-2È£
Àåºñ¸í
¾ÆÅ© Á¦³í ·¥ÇÁ(Xenon Arc Lamp Solar Simulator)
Á¦ÀÛ»ç
¿¡ÀÌÄ¡¿¡½ºÅ×Å©³î·¯Áö
¸ðµ¨¸í
Oriel
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 224È£
Àåºñ¸í
±â»ó¹°Áú ³óµµÃøÁ¤ºÐ¼®±â(Photoacoustic Multi Gas Monitor)
Á¦ÀÛ»ç
½Ã¿¥½Ã¿£Áö´Ï¾î¸µ
¸ðµ¨¸í
INNOVA 1412i
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 224È£
Àåºñ¸í
Áú¼Ò ¹× ´Ü¹éÁú ºÐ¼®ÀåÄ¡(Automatic Nitrogen and Protein Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
Foss
¸ðµ¨¸í
Kjeltec 2300
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 230È£
Àåºñ¸í
°í¼º´É ¾×ü Å©·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ(High Performance Liquid Chromatograph (HPLC))
Á¦ÀÛ»ç
Agilent Technologies
¸ðµ¨¸í
1260 Infinity
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 302È£
Àåºñ¸í
±âÆÇ ±â¹Ý ¹°Áú Á¦ÀÛ¿ë ¾Æ³ë´ÙÀÌÁî(Anodizer for AAO)
Á¦ÀÛ»ç
TERALEADER
¸ðµ¨¸í
TAD-001-2CH
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 302È£
Àåºñ¸í
Àû¿Ü¼± ºÐ±¤±â(Fourier-transform Infrared (FT-IR) Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
Nicolet iS50
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 302È£
Àåºñ¸í
¸¶ÀÌÅ©·ÎÇ÷¹ÀÌÆ® ¸®´õ(Multi-detection Microplate Reader)
Á¦ÀÛ»ç
Hidex Oy
¸ðµ¨¸í
Hidex Sense
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 327È£
Àåºñ¸í
°í¼Ó ¿ø½ÉºÐ¸®±â(High Speed Centrifugal Separator)
Á¦ÀÛ»ç
GOSGO
¸ðµ¨¸í
GK-8
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 331È£
Àåºñ¸í
°í¼Ó ´Ü¹éÁú ¾×ü Å©·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ (FPLC)(Fast Protein Liquid Chromatography (FPLC))
Á¦ÀÛ»ç
GE Healthcare
¸ðµ¨¸í
AKTA FPLC
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 331È£
Àåºñ¸í
°í¼Ó ´Ü¹éÁú ¾×ü Å©·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ (FPLC)(Fast Protein Liquid Chromatography (FPLC))
Á¦ÀÛ»ç
GE Healthcare
¸ðµ¨¸í
AKTApilot
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 331È£
Àåºñ¸í
Çü±¤ ±Ý¼Ó Çö¹Ì°æ(Fluorescence Metallurgical Microscope)
Á¦ÀÛ»ç
OLYMPUS
¸ðµ¨¸í
BX60
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 333È£
Àåºñ¸í
¾Æ¹Ì³ë»ê Á¶¼ººÐ¼®±â(Auto Amino Acid Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
¾ÆÁÖ°úÇÐ
¸ðµ¨¸í
Automatic amino acid analyzer S433
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 334È£
Àåºñ¸í
µµ¸³ Çü±¤ Çö¹Ì°æ(Inverted Fluorescence Microscope)
Á¦ÀÛ»ç
NIKON
¸ðµ¨¸í
Eclipse Ti2
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 403È£
Àåºñ¸í
Àû¿Ü¼± ºÐ±¤±â(Fourier-transform Infrared (FT-IR) Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
PerkinElmer
¸ðµ¨¸í
Spectrum Two
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 403È£
Àåºñ¸í
Ç¥¸é ¹°¼º ÃøÁ¤±â(Force Tensiometer)
Á¦ÀÛ»ç
Kruss
¸ðµ¨¸í
K100
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 403È£
Àåºñ¸í
Àڿܼ± ÆòÇ౤ Á¶»ç ½Ã½ºÅÛ(Mask Aligner and Exposure System)
Á¦ÀÛ»ç
PROWIN
¸ðµ¨¸í
M150P
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 410È£
Àåºñ¸í
±â°øµµ ºÐ¼®±â(Brunauer-Emmett-Teller (BET) & Pore Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
micromeritics
¸ðµ¨¸í
ASAP 2020
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 412È£
Àåºñ¸í
È­ÇÐÈíÂøºÐ¼®±â(Temperature Programed Reduction/Desorption (TPR/TPD) Chemisorption Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
micromeritics
¸ðµ¨¸í
AutoChem II
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 412È£
Àåºñ¸í
°í¼º´É ¾×ü Å©·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ(High Performance Liquid Chromatograph (HPLC))
Á¦ÀÛ»ç
Waters
¸ðµ¨¸í
e2695
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 412È£
Àåºñ¸í
ÇÙ»ê ÃßÃâ±â(Auto Nucleic Acid Preparation System)
Á¦ÀÛ»ç
Precision System Science
¸ðµ¨¸í
Magtration System 12GC
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 414È£
Àåºñ¸í
Àû¿Ü¼± ºÐ±¤±â(Fourier-transform Infrared (FT-IR) Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
Nicolet 6700
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 417È£
Àåºñ¸í
ºñÇ¥¸éÀû ºÐ¼®±â(Surface Area Analyzer)
Á¦ÀÛ»ç
micromeritics
¸ðµ¨¸í
ASAP 2010
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 431È£
Àåºñ¸í
»çÁß±ØÀÚ Áú·®ºÐ¼®±â(Quadrupole Mass Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
HIDEN ANALYTICAL
¸ðµ¨¸í
HPR-20
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 431È£
Àåºñ¸í
Àû¿Ü¼± ºÐ±¤±â(Fourier-transform Infrared (FT-IR) Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
Nicolet iS50
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 431È£
Àåºñ¸í
Àû¿Ü¼± ºÐ±¤±â(Fourier-transform Infrared (FT-IR) Spectrometer)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
Nicolet iS20
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 431È£
Àåºñ¸í
»ê¼ººñ ÀÚµ¿Ã¤Ãë±â(Automatic Acid Rain Sampler)
Á¦ÀÛ»ç
Eigenbrodt GmbH & Co. KG
¸ðµ¨¸í
NSA 181 / KE
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ ¿Á»ó
»ç¿ëÁ¤º¸
Àåºñ¿ÀÇ¿©ºÎ
X
ÀÚÀ²»ç¿ë¿©ºÎ
X
»ç¿ë·á
-
ÀÚ»êÁ¤º¸
Ãëµæ±Ý¾×
\ 49,500,000
ÃëµæÀÏ
2015-11-23
ÂüÁ¶»çÇ×
÷ºÎÆÄÀÏ
URL
http://www.randb.co.kr/
Ű¿öµå
U draw bending test, Springback
XS
SM
MD
LG
77 Cheongam-ro, Nam-gu, Pohang, Gyeongbuk, Republic of Korea (37673)
+82-54-279-3653
Copyright ¨Ï All rights Reserved.
[Àӽà °³¹ß¿µ¿ª º¸±â] 216.73.217.130