 기본정보 |
설비번호 |
10074510 |
장비명(한글) |
 플라즈마 화학 기상 증착기
|
장비명(영문) |
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD) |
제작사 |
BMR Technology Co. |
모델명 |
HiDep-SC |
| 상세정보 |
장비사양 |
Standard process : SiO2, SiN, SiON, Amorphous-Si
Process Temperature : 50 ~ 300℃
Base Presuure : under 5E-6Torr
Wafer size : up to 8inch wafer
Gases : SiH4, N2, O2, H2, He, CF4, Ar |
활용분야 |
SiO2 :high depositon rate at relatively low temperatures excellent breakdown characteristics.
hard mask, insulator, final passivation
SiN : high dielectric constant(as compared to that of silicn dioxide) imperviousness to water vapor and ion diffusion radiation shielding
etch stop materials, spacers for the suicide materials, dielectric layer |
| 장비운영인력 |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
소속 |
나노융합기술원 |
성명 |
이정익 |
전화 |
054-279-0267 |
이메일 |
kb3000@postech.ac.kr |
| 동일/유사장비정보 |
장비명 |
진공 열증착 시스템(Thermal Evaporating System) |
제작사 |
대동하이텍 |
모델명 |
DD-GT103R |
설치장소 |
C5 329호
|
|
장비명 |
패럴린 증착기(Parylene Deposition System) |
제작사 |
오방테크놀로지 |
모델명 |
OBT-PC300 |
설치장소 |
C5 329호
|
|
장비명 |
펄스 레이저 증착 시스템(Pulsed Laser Deposition (PLD) System) |
제작사 |
한빛레이저 |
모델명 |
GPPA-A377 |
설치장소 |
C5 329호
|
|
장비명 |
원료 증착 시스템(Materials Deposition System with Piezoelectric Inkjet Catridge) |
제작사 |
FUJIFILM |
모델명 |
Dimatix DMP-2850 |
설치장소 |
C5 329호
|
|
장비명 |
플라즈마 처리 시스템(Plasma Treatment Machine) |
제작사 |
Nordson |
모델명 |
AP-300 Plasma System |
설치장소 |
C5 720-1호
|
|
장비명 |
패럴린 증착기(Parylene Deposition System) |
제작사 |
Specialty Coating Systems (SCS) - A KISCO Company |
모델명 |
PDS Labcoter 2 (PDS 2010 LABCOTER) |
설치장소 |
C5 720-1호
|
|
장비명 |
전자빔 증착기(E-beam Evaporating System) |
제작사 |
TEMESCAL/BOC COATING TECH |
모델명 |
BDJ 1800 |
설치장소 |
LG연구동 110호
|
|
장비명 |
원자층 증착기(Atomic Layer Deposition (ALD)) |
제작사 |
CN1 |
모델명 |
Atomic-Basic |
설치장소 |
RIST1동 1139호
|
|
장비명 |
전자빔 증착기(E-beam Evaporating System) |
제작사 |
Telemark |
모델명 |
246-28 |
설치장소 |
RIST1동 1145호
|
|
장비명 |
고분해능 유도 결합 플라즈마 질량분석기(High Resolution Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer (HR-ICP-MS)) |
제작사 |
Thermo Scientific |
모델명 |
ELEMENT XR |
설치장소 |
RIST1동 1304호
|
|
장비명 |
삼중 사극자 유도 결합 플라즈마 질량분석기(Triple Quadrupole Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer (TQ-ICP-MS)) |
제작사 |
Thermo Scientific |
모델명 |
iCAP TQ |
설치장소 |
RIST1동 1306호
|
|
장비명 |
유도 결합 플라즈마 분광분석기(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry (ICP-OES)) |
제작사 |
AMETEK |
모델명 |
Spectro Arcos |
설치장소 |
RIST1동 1309호
|
|
장비명 |
유도 결합 플라즈마 분광분석기(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry (ICP-OES)) |
제작사 |
PerkinElmer |
모델명 |
Optima 8300 |
설치장소 |
RIST1동 1311호
|
|
장비명 |
유도 결합 플라즈마 분광분석기(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry (ICP-OES)) |
제작사 |
Thermo Scientific |
모델명 |
iCAP 7000 Series |
설치장소 |
RIST1동 1311호
|
|
장비명 |
유도 결합 플라즈마 분광분석기(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry (ICP-OES)) |
제작사 |
AMETEK |
모델명 |
Spectro Arcos |
설치장소 |
RIST1동 1311호
|
|
장비명 |
전자빔 증착기(E-beam Evaporating System) |
제작사 |
Selcos |
모델명 |
Cetus-E |
설치장소 |
RIST3동 3104호
|
|
장비명 |
열 화학 기상 증착 장치(Thermal Chemical Vapor Deposition (CVD) System) |
제작사 |
SNTEK |
모델명 |
TCS5000 |
설치장소 |
RIST3동 3104호
|
|
장비명 |
진공 열증착 시스템(Thermal Evaporating System) |
제작사 |
TERALEADER |
모델명 |
TLP1001 |
설치장소 |
RIST3동 3139호
|
|
장비명 |
전자빔 증착기(E-beam Evaporating System) |
제작사 |
iNFOVION |
모델명 |
- |
설치장소 |
RIST3동 3147호
|
|
장비명 |
플라즈마 원자층 증착 시스템(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PE-ALD) System) |
제작사 |
ForALL |
모델명 |
OZONE |
설치장소 |
RIST3동 3223호
|
|
장비명 |
펄스 레이저 증착 시스템(Pulsed Laser Deposition (PLD) System) |
제작사 |
HIGGSLAB |
모델명 |
PLD SYSTEM |
설치장소 |
RIST3동 3263호
|
|
장비명 |
펄스 레이저 증착 시스템(Pulsed Laser Deposition (PLD) System) |
제작사 |
COHERENT |
모델명 |
COMPex Pro 102 F |
설치장소 |
RIST3동 3282호
|
|
장비명 |
X-선광전자분광분석기(XPS xonnectable Deposition system) |
제작사 |
ULVAC-PHI, Inc. |
모델명 |
PHI GENESIS Multi-tech Scanning XPS |
설치장소 |
RIST3동 3360/3362호
|
|
장비명 |
진공 열증착 시스템(Vacuum Thermal Evaporating System) |
제작사 |
WOOSUNG HI-VAC |
모델명 |
- |
설치장소 |
RIST3동 3363호
|
|
장비명 |
진공 열증착 시스템(Thermal Evaporating System) |
제작사 |
DDONG High Technologies |
모델명 |
Thermal Evaporator System |
설치장소 |
나노융합기술원 311호
|
|
장비명 |
전자빔 증착기(E-beam Evaporating System) |
제작사 |
Korea Vacuum Tech |
모델명 |
KVE-C300160 |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
|
장비명 |
유기물 증착기(Organic Molecular Beam Deposition (OMBD) & Thermal Evaporator) |
제작사 |
alpha-plus |
모델명 |
OMBD & Thermal |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
|
장비명 |
금속 유기물 화학기상증착 시스템(Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOVCD) System) |
제작사 |
Jusung Eng. |
모델명 |
Eureka 2000 |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
|
장비명 |
원자층 증착기(Atomic Layer Deposition (ALD)) |
제작사 |
QUROS |
모델명 |
Plus 200 |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
|
장비명 |
전자빔 증착기(E-beam Evaporating System) |
제작사 |
Korea Vacuum Tech |
모델명 |
KVE-4000 |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
|
장비명 |
저압 화학증착장치(퍼니스 타입)(Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LP-CVD; Furnace Type)) |
제작사 |
(주)유진테크 |
모델명 |
BJM100 |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
|
장비명 |
플라즈마 화학 기상 증착기(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD)) |
제작사 |
아텍시스템 |
모델명 |
UF-CVD 200 |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
|
장비명 |
유도결합 플라즈마 식각 장치(Inductively Coupled Plasma (ICP) Etcher) |
제작사 |
(주)디엠에스 |
모델명 |
ICP Etcher |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
|
장비명 |
상압 화학기상증착법(Atmosphere Pressure Chemical Vapor Deposition (APCVD)) |
제작사 |
Watkins Johnson |
모델명 |
WJ-1000T |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
|
장비명 |
탄소나노튜브 합성 CVD(Carbon Nanotube (CNT) Synthesis Chemical Vapor Deposition (CVD)) |
제작사 |
아텍시스템 |
모델명 |
- |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
|
장비명 |
전자빔 증착기(E-beam Evaporating System) |
제작사 |
Korea Vacuum Tech |
모델명 |
KVE-C300160 |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
|
장비명 |
보호막용 플라즈마 화학 기상 증착기(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD) for Passivation) |
제작사 |
TES |
모델명 |
TELIA200 |
설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
|
|
장비명 |
플라즈마 화학 기상 증착기(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD)) |
제작사 |
Korea Vacuum Tech |
모델명 |
KVPED-T0583 |
설치장소 |
제1공학관 210호
|
|
장비명 |
건식식각장치(Inductively Coupled Plasma (ICP) Etcher) |
제작사 |
Korea Vacuum Tech |
모델명 |
KVICP-T406530 |
설치장소 |
제1공학관 210호
|
|
장비명 |
진공 열증착 시스템(Thermal Evaporating System) |
제작사 |
GD-Tech |
모델명 |
KVT-2008L |
설치장소 |
제1공학관 210호
|
|
장비명 |
유도 결합 플라즈마 질량분석기(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer (ICP-MS)) |
제작사 |
PerkinElmer |
모델명 |
NexION-300D |
설치장소 |
제1실험동 318호
|
|
장비명 |
유도 결합 플라즈마 분광분석기(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry (ICP-OES)) |
제작사 |
Thermo Scientific |
모델명 |
iCAP 6500 DUO |
설치장소 |
철강대학원 176호
|
|
장비명 |
스퍼터 / 진공증착 장치(Sputtering / Vacuum Deposition System) |
제작사 |
아이씨티 |
모델명 |
특수제작 |
설치장소 |
철강대학원 374호
|
|
장비명 |
전기화학 분석기(Electrochemical Analyzer System) |
제작사 |
Advanced Measurement Technology |
모델명 |
2101A |
설치장소 |
한국로봇융합연구원 313호
|
|
장비명 |
다중검출 유도결합플라즈마 질량분석기(Multi-Collector Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer (MC-ICP-MS)) |
제작사 |
Nu Instruments Ltd |
모델명 |
Plasma 3 |
설치장소 |
환경공학동 105호
|
|
장비명 |
유도 결합 플라즈마 분광분석기(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry (ICP-OES)) |
제작사 |
Thermo Scientific |
모델명 |
iCAP 7400 |
설치장소 |
환경공학동 106호
|
