XS
SM
MD
LG
Equipment Information
ÀüÀÚºö ÁõÂø±â(E-beam Evaporating System)
ÀåºñÁ¤º¸
Equip. Info.
±âº»Á¤º¸
¼³ºñ¹øÈ£
10049083
Àåºñ¸í(ÇѱÛ)
ÀüÀÚºö ÁõÂø±â
Àåºñ¸í(¿µ¹®)
E-beam Evaporating System
Á¦ÀÛ»ç
Korea Vacuum Tech
¸ðµ¨¸í
KVE-4000
»ó¼¼Á¤º¸
Àåºñ»ç¾ç
The ELS-7800 Electron Beam Lithography system, an 80kV tool, is the most recent introduction from Elionix. The ELS-7800 offers high performance (8nm lines) and small footprint. Several of these systems are in operation in Asia, and are now being offered in North America.
Ȱ¿ëºÐ¾ß
10NM±Þ °í¼Ó Á÷Á¢³ë±¤
Àåºñ¿î¿µÀηÂ
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
¼Ò¼Ó
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø
¼º¸í
±èµ¿Çö
ÀüÈ­
054-279-0237
À̸ÞÀÏ
best820@postech.ac.kr
µ¿ÀÏ/À¯»çÀåºñÁ¤º¸
Àåºñ¸í
À¯¼¼Æ÷ ºÐ¼®±â(Accuri C6 plus System)
Á¦ÀÛ»ç
BD Biosciences
¸ðµ¨¸í
BD Accuri¢â C6 Plus
¼³Ä¡Àå¼Ò
202-1È£
Àåºñ¸í
[±Û·ÎÄÃ] ÆÄ¿ö·¦¾¾ µðÁöÅÐ µ¥ÀÌÅÍ ¼öÁý ½Ã½ºÅÛ([Glocal] PowerLab C Digital Data Collection System)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)¶óÀÌÇÁÅØ
¸ðµ¨¸í
PowerLab C
¼³Ä¡Àå¼Ò
206È£
Àåºñ¸í
PCR ½Ã½ºÅÛ(GeneAmp PCR System 9700)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Fisher Scientific
¸ðµ¨¸í
GeneAmp PCR System 9700
¼³Ä¡Àå¼Ò
410È£
Àåºñ¸í
ÃÊ°í¼º´É ÀÚµ¿ ¼¼Æ÷ºÐ¼®±â(Ultra High-End Performance Flow Cytometry System)
Á¦ÀÛ»ç
Beckman Coulter
¸ðµ¨¸í
cyotoFLEX LX
¼³Ä¡Àå¼Ò
729È£
Àåºñ¸í
Á¶Á÷Åõ¸íÈ­½Ã½ºÅÛ(CLARITY-Tissue Clearing system)
Á¦ÀÛ»ç
·Î°í¹ÙÀÌ¿À½Ã½ºÅÛ
¸ðµ¨¸í
X-clarity
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC 4210È£
Àåºñ¸í
Ãʼø¼ö Á¦Á¶ÀåÄ¡(Water purification system(2,3Â÷))
Á¦ÀÛ»ç
Merck Millipore
¸ðµ¨¸í
Milli-Q¢ç IQ 7015
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [3307È£]
Àåºñ¸í
¹ÙÀÌ¿ÀºÐÀÚ À̹Ì¡ ½Ã½ºÅÛ(Biomolecular Imaging System)
Á¦ÀÛ»ç
GE Healthcare(Çö Cytiva)
¸ðµ¨¸í
Amersham Imager 600
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [4307È£]
Àåºñ¸í
(GLOCAL)´ÜÀϼ¼Æ÷ À̹Ì¡ °ø°£ ºÐ¼® ½Ã½ºÅÛ(Ultra high-multiplexed single cell spatial analysis system)
Á¦ÀÛ»ç
Akoya Biosciences
¸ðµ¨¸í
Phenocycler-Fusion 2.0
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [4308È£]
Àåºñ¸í
Ãʼø¼ö Á¦Á¶ÀåÄ¡(Water purification system(2,3Â÷))
Á¦ÀÛ»ç
Merck Millipore
¸ðµ¨¸í
Milli-Q¢ç Q-POD¢ç
¼³Ä¡Àå¼Ò
BOIC [4313È£]
Àåºñ¸í
È­Çй߱¤ À̹ÌÁö ÃøÁ¤ÀåÄ¡(Western Blot Imaging System)
Á¦ÀÛ»ç
Cytiva
¸ðµ¨¸í
Amersham Image Quant IQ800
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5
Àåºñ¸í
°íÈ¿À² ½Ã·á°Ë»ö ½Ã½ºÅÛ(High throughput screening system)
Á¦ÀÛ»ç
Revvity
¸ðµ¨¸í
Fontus NGS
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5
Àåºñ¸í
´ë¿ë·® Â÷¼¼´ë¿°±â¼­¿­ºÐ¼® ½Ã½ºÅÛ(Next-Generation Sequencing system)
Á¦ÀÛ»ç
Illumina
¸ðµ¨¸í
NextSeq1000
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5
Àåºñ¸í
·¹ÀÌÀú ½Ã½ºÅÛ(Tunable Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
Amplitude
¸ðµ¨¸í
Surelite OPO
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 228È£
Àåºñ¸í
¿¬±¸¿ë ÃÊÀ½ÆÄ ½Ã½ºÅÛ(Research Ultrasound System)
Á¦ÀÛ»ç
Verasonics
¸ðµ¨¸í
VANTAGE 256
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 228È£
Àåºñ¸í
·¡ÇÎ&Æú¸®½Ì ½Ã½ºÅÛ(Lapping & Polishing System)
Á¦ÀÛ»ç
LOGITECH
¸ðµ¨¸í
PM6
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 228È£
Àåºñ¸í
ÀÓÇÇ´ø½º ÃøÁ¤Àåºñ(Impedance Analyzer System)
Á¦ÀÛ»ç
Keysight Technologies
¸ðµ¨¸í
E4990A
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 232È£
Àåºñ¸í
ü¿Ü »ýü Á¶Á÷ Èû ÃøÁ¤ ÀåÄ¡(Isolated Muscle System)
Á¦ÀÛ»ç
Aurora Scientific
¸ðµ¨¸í
1500A
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 232È£
Àåºñ¸í
Áø°ø ¿­ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Thermal Evaporating System)
Á¦ÀÛ»ç
´ëµ¿ÇÏÀÌÅØ
¸ðµ¨¸í
DD-GT103R
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 329È£
Àåºñ¸í
ÆÐ·²¸° ÁõÂø±â(Parylene Deposition System)
Á¦ÀÛ»ç
¿À¹æÅ×Å©³î·ÎÁö
¸ðµ¨¸í
OBT-PC300
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 329È£
Àåºñ¸í
ÆÞ½º ·¹ÀÌÀú ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Pulsed Laser Deposition (PLD) System)
Á¦ÀÛ»ç
ÇѺû·¹ÀÌÀú
¸ðµ¨¸í
GPPA-A377
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 329È£
Àåºñ¸í
PC Á¦¾î À̹ÌÁö ÀÎ½Ä µµÆ÷ ½Ã½ºÅÛ(PC Control Image Recognition Dispensing System)
Á¦ÀÛ»ç
MUSASHI ENGINEERING, INC.
¸ðµ¨¸í
IMAGE MASTER 350PC SMART/SHOTMASTER 300QX
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 329È£
Àåºñ¸í
¿ø·á ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Materials Deposition System with Piezoelectric Inkjet Catridge)
Á¦ÀÛ»ç
FUJIFILM
¸ðµ¨¸í
Dimatix DMP-2850
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 329È£
Àåºñ¸í
¹ÝµµÃ¼ ½ºÀ§Äª ½Ã½ºÅÛ(Semiconductor Switching System)
Á¦ÀÛ»ç
KEITHLEY Instruments
¸ðµ¨¸í
707B
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 330È£
Àåºñ¸í
ÆÐ·²¸° ÁõÂø±â(Parylene Deposition System)
Á¦ÀÛ»ç
Specialty Coating Systems (SCS) - A KISCO Company
¸ðµ¨¸í
PDS Labcoter 2 (PDS 2010 LABCOTER)
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 720-1È£
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅ͸µ ½Ã½ºÅÛ(Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
JUWON TECH
¸ðµ¨¸í
JWMSS-200XL
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5 721È£
Àåºñ¸í
3D ÇÁ¸°ÅÍ(Standalone 3D printer system)
Á¦ÀÛ»ç
3D Systems
¸ðµ¨¸í
Figure 4 Standalone 3D Printer
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5, 722È£(¹ÙÀÌ¿ÀÇコÄɾÅÍ)
Àåºñ¸í
3D ±¼ÀýÇö¹Ì°æ(Low coherence holotomography systems)
Á¦ÀÛ»ç
Tomocube
¸ðµ¨¸í
HT-X1
¼³Ä¡Àå¼Ò
C5, 722È£(¹ÙÀÌ¿ÀÇコÄɾÅÍ)
Àåºñ¸í
ÀüÀÚºö ÁõÂø±â(E-beam Evaporating System)
Á¦ÀÛ»ç
TEMESCAL/BOC COATING TECH
¸ðµ¨¸í
BDJ 1800
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 110È£
Àåºñ¸í
¸¶±×³×Æ®·Ð ½ºÆÛÅ͸µ Àåºñ(Magnetron Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
SNTEK
¸ðµ¨¸í
SPR-5006
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 110È£
Àåºñ¸í
Àç»ý ¹èÅ͸® ÆÑ Å×½ºÆ® ½Ã½ºÅÛ(Regenerative Battery Pack Test System)
Á¦ÀÛ»ç
Chroma
¸ðµ¨¸í
Model 17020
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 420È£
Àåºñ¸í
¹èÅ͸® ¼¿ Ãæ¹æÀü Àåºñ(Battery Cell Charge/Discharge Test System)
Á¦ÀÛ»ç
Chroma
¸ðµ¨¸í
Model 17011
¼³Ä¡Àå¼Ò
LG¿¬±¸µ¿ 420È£
Àåºñ¸í
´ë±âÁ¶Àý¹è¾çÀÛ¾÷´ë(Modular Atmosphere Control Workstation System)
Á¦ÀÛ»ç
Don Whitley Scientific
¸ðµ¨¸í
Don Whitley Scientific A55
¼³Ä¡Àå¼Ò
PBC 362È£
Àåºñ¸í
°í°¨µµ PDL Ȧ ÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ (High Sensitivity Parallel Dipole Line Hall System )
Á¦ÀÛ»ç
Semilab
¸ðµ¨¸í
PDL 1000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST 3µ¿ 3116/3118È£
Àåºñ¸í
Çï·ý °¡½º ȸ¼ö¿ë ÄÄÇÁ·¹¼­(Helium Compressor and Filtering System)
Á¦ÀÛ»ç
Bumhan
¸ðµ¨¸í
BH-AL7B
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1018È£
Àåºñ¸í
¹°¸®Àû Ư¼º ÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(Physical Property Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
Quantum Design
¸ðµ¨¸í
Quantum Design PPMS
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1104È£
Àåºñ¸í
Àڱ⹰¼ºÃøÁ¤ÀåÄ¡(MAGNETIC PROPERTY MEASUREMENT SYSTEM)
Á¦ÀÛ»ç
QUANTUM DESIGN
¸ðµ¨¸í
XL5
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1104È£
Àåºñ¸í
ÀüÀÚºö ÁõÂø±â(E-beam Evaporating System)
Á¦ÀÛ»ç
Telemark
¸ðµ¨¸í
246-28
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1145È£
Àåºñ¸í
À̿ ¹Ð¸µ ½Ã½ºÅÛ(Cross Section Planar Ion Milling System)
Á¦ÀÛ»ç
GATAN
¸ðµ¨¸í
Ilion+II Model 697
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1162È£
Àåºñ¸í
GC/MSD ½Ã½ºÅÛ(Gas Chromatography/Mass Selective Detector (GC/MSD) System)
Á¦ÀÛ»ç
Agilent Technologies
¸ðµ¨¸í
7890B/5977A
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1314È£
Àåºñ¸í
GC/MSD ½Ã½ºÅÛ(Gas Chromatography/Mass Selective Detector (GC/MSD) System)
Á¦ÀÛ»ç
Agilent Technologies
¸ðµ¨¸í
7890B/5977B
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1314È£
Àåºñ¸í
»ïÁß »ç±ØÀÚ LC/MS/MS ½Ã½ºÅÛ(Triple Quadrupole LC/MS/MS System)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
TSQ Quantum Ultra
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1316È£
Àåºñ¸í
¿­Å»Âø ÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(Thermal Desorption System)
Á¦ÀÛ»ç
Markes International
¸ðµ¨¸í
UNITY2
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1317È£
Àåºñ¸í
À̿ ũ·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ ½Ã½ºÅÛ(Ion Chromatography System)
Á¦ÀÛ»ç
Nittoseiko Analytech
¸ðµ¨¸í
AQF-2100H
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1318È£
Àåºñ¸í
ijÇÊ·¯¸® À̿ ũ·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ(Capillary Ion Chromatography System)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
Dionex ICS-5000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1320È£
Àåºñ¸í
¸¶ÀÌÅ©·ÎÆÄ ½Ã·á ºÐÇØ ½Ã½ºÅÛ(Advanced Microwave Digestion System)
Á¦ÀÛ»ç
Milestone
¸ðµ¨¸í
ETHOS 1
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 1334È£
Àåºñ¸í
HPT-E-CAPº¹ÇÕÇÁ·¹½º(HPT-E-CAP Compound Press System)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)¸ðÀνýº
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST1µ¿ 2022È£
Àåºñ¸í
ÇǷμö¸í½ÃÇè±â(Material Test System)
Á¦ÀÛ»ç
MTS
¸ðµ¨¸í
810 Material Test System
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST2µ¿ 2193È£
Àåºñ¸í
ÇǷμö¸í½ÃÇè±â(Material Test System)
Á¦ÀÛ»ç
MTS
¸ðµ¨¸í
810 Material Test System
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3003È£
Àåºñ¸í
Áø°ø è¹ö Á¤¹Ð ºÐ¼® Àåºñ(Vacuum Chamber I-V Probing System)
Á¦ÀÛ»ç
MS TECH
¸ðµ¨¸í
MST5000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3102È£
Àåºñ¸í
ÀüÀÚºö ÁõÂø±â(E-beam Evaporating System)
Á¦ÀÛ»ç
Selcos
¸ðµ¨¸í
Cetus-E
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3104È£
Àåºñ¸í
¿­ È­ÇÐ ±â»ó ÁõÂø ÀåÄ¡(Thermal Chemical Vapor Deposition (CVD) System)
Á¦ÀÛ»ç
SNTEK
¸ðµ¨¸í
TCS5000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3104È£
Àåºñ¸í
Áø°ø ¿­ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Thermal Evaporating System)
Á¦ÀÛ»ç
TERALEADER
¸ðµ¨¸í
TLP1001
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3139È£
Àåºñ¸í
ÀüÀÚºö ÁõÂø±â(E-beam Evaporating System)
Á¦ÀÛ»ç
iNFOVION
¸ðµ¨¸í
-
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3147È£
Àåºñ¸í
½Ç½Ã°£ PCR ½Ã½ºÅÛ(Real-time Polymerase Chain Reaction (PCR) System)
Á¦ÀÛ»ç
Roche
¸ðµ¨¸í
LightCycler96
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3153È£
Àåºñ¸í
Çü±¤/Àα¤ ÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(Fluoroscence/Luminescence Measuring System)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
Fluoroskan Ascent FL
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3161È£
Àåºñ¸í
ºÐ±¤½Ã½ºÅÛ(Spectrometer System)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)¿µÇ³¾¾¿¥¾¾
¸ðµ¨¸í
CS-2000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3169È£
Àåºñ¸í
PC Á¦¾î À̹ÌÁö ÀÎ½Ä µµÆ÷ ½Ã½ºÅÛ(PC Control Image Recognition Dispensing System)
Á¦ÀÛ»ç
MUSASHI ENGINEERING, INC.
¸ðµ¨¸í
IMAGE MASTER 350PC SMART/SHOTMASTER 300DS-S
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3170È£
Àåºñ¸í
¹ü¿ë ÇÁ·Îºê ½Ã½ºÅÛ(Universal Measurement Probe System)
Á¦ÀÛ»ç
TERALEADER
¸ðµ¨¸í
UMP100
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3170È£
Àåºñ¸í
3D º¯ÇüÃøÁ¤½Ã½ºÅÛ(3D Deformation Analysis System)
Á¦ÀÛ»ç
GOM international AG
¸ðµ¨¸í
ARAMIS 12M
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3188È£
Àåºñ¸í
Àڿܼ± ÆòÇ౤ Á¶»ç ½Ã½ºÅÛ(Mask Aligner and Exposure System)
Á¦ÀÛ»ç
MIDAS SYSTEM
¸ðµ¨¸í
MDA-400M
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3212È£
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅ͸µ ½Ã½ºÅÛ(Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
SNTEK
¸ðµ¨¸í
RSP-5000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3219È£
Àåºñ¸í
RIE ½Ã½ºÅÛ(Reactive Ion Etching (RIE) System)
Á¦ÀÛ»ç
SNTEK
¸ðµ¨¸í
-
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3219È£
Àåºñ¸í
ÇöóÁ ¿øÀÚÃþ ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PE-ALD) System)
Á¦ÀÛ»ç
ForALL
¸ðµ¨¸í
OZONE
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3223È£
Àåºñ¸í
¹Ú¸·ÃøÁ¤±â(Thin Film Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
KSV INSTRUMENTS
¸ðµ¨¸í
-
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3229È£
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅ͸µ ½Ã½ºÅÛ(Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
SNTEK
¸ðµ¨¸í
RSP-5000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3263È£
Àåºñ¸í
¿¢½Ã¸Ó ·¹ÀÌÀú ½Ã½ºÅÛ(Excimer Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
COHERENT
¸ðµ¨¸í
COMPex 201 F
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3263È£
Àåºñ¸í
ÆÞ½º ·¹ÀÌÀú ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Pulsed Laser Deposition (PLD) System)
Á¦ÀÛ»ç
HIGGSLAB
¸ðµ¨¸í
PLD SYSTEM
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3263È£
Àåºñ¸í
Ãʰí¼Ó µðÁöÅÐ Ä«¸Þ¶ó ÀåÄ¡(High-speed Digital Camera System)
Á¦ÀÛ»ç
Photron Ltd.
¸ðµ¨¸í
FASTCAM SA1
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3267È£
Àåºñ¸í
ºÐ±¤½Ã½ºÅÛ(Spectrometer System)
Á¦ÀÛ»ç
Andor Technology
¸ðµ¨¸í
SR-303i
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3267È£
Àåºñ¸í
Ãʰí¼Ó µðÁöÅÐ Ä«¸Þ¶ó ÀåÄ¡(High-speed Digital Camera System)
Á¦ÀÛ»ç
Photron Ltd.
¸ðµ¨¸í
FASTCAM SA2
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3267È£
Àåºñ¸í
ÀüÁö ¼º´É ½ÃÇè±â(Multi-cycling Battery Test System)
Á¦ÀÛ»ç
Korea Thermo-Tech
¸ðµ¨¸í
SERIES 4000
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3278È£
Àåºñ¸í
ÆÞ½º ·¹ÀÌÀú ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Pulsed Laser Deposition (PLD) System)
Á¦ÀÛ»ç
COHERENT
¸ðµ¨¸í
COMPex Pro 102 F
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3282È£
Àåºñ¸í
Àú¿ÂÀ¯ÁöÀåÄ¡(Cryostat System)
Á¦ÀÛ»ç
Oxford Instruments
¸ðµ¨¸í
CCC1104
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3289È£
Àåºñ¸í
GPC ½Ã½ºÅÛ(Gel Permeation Chromatography (GPC) System)
Á¦ÀÛ»ç
Waters
¸ðµ¨¸í
1525/2414/410
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3312È£
Àåºñ¸í
¹ÝµµÃ¼ Ư¼º ºÐ¼®±â(Semiconductor Characterization System)
Á¦ÀÛ»ç
KEITHLEY Instruments
¸ðµ¨¸í
4200
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3340È£
Àåºñ¸í
QE ÃøÁ¤±â(External and Internal Quantum Efficiency (EQE and IQE) Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
NEWPORT
¸ðµ¨¸í
Oriel IQE-200
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3340È£
Àåºñ¸í
X-¼±±¤ÀüÀںб¤ºÐ¼®±â(XPS xonnectable Deposition system)
Á¦ÀÛ»ç
ULVAC-PHI, Inc.
¸ðµ¨¸í
PHI GENESIS Multi-tech Scanning XPS
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3360/3362È£
Àåºñ¸í
Áø°ø ¿­ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Vacuum Thermal Evaporating System)
Á¦ÀÛ»ç
WOOSUNG HI-VAC
¸ðµ¨¸í
-
¼³Ä¡Àå¼Ò
RIST3µ¿ 3363È£
Àåºñ¸í
½Ç½Ã°£ PCR ½Ã½ºÅÛ(Real-time Polymerase Chain Reaction (PCR) System)
Á¦ÀÛ»ç
Roche
¸ðµ¨¸í
LightCycler480
¼³Ä¡Àå¼Ò
°¡Å縯´ë ÀÇ»ý¸í°øÇבּ¸¼Ò
Àåºñ¸í
À̺ÒÈ­Á¦³í ½Ä°¢±â(Xenon difluoride Etching system)
Á¦ÀÛ»ç
¢ß½ÎÀÌ¿£ÅØ
¸ðµ¨¸í
Xef2 etching system
¼³Ä¡Àå¼Ò
±â°è½ÇÇ赿 104È£
Àåºñ¸í
Ãʰí¼Ó µðÁöÅÐ Ä«¸Þ¶ó ÀåÄ¡(High-speed Digital Camera System)
Á¦ÀÛ»ç
Photron Ltd.
¸ðµ¨¸í
FASTCAM Mini UX100
¼³Ä¡Àå¼Ò
±â°è½ÇÇ赿 108È£
Àåºñ¸í
´ÙÀÌ¿Àµå ·¹ÀÌÁ® ½Ã½ºÅÛ(Diode Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
COHERENT
¸ðµ¨¸í
Chameleon Vision 2
¼³Ä¡Àå¼Ò
±â°è½ÇÇ赿 206È£
Àåºñ¸í
ÆèÅäÃÊ ÆÞ½º ·¹ÀÌÀú ½Ã½ºÅÛ(Femtosecond Pulse Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
COHERENT
¸ðµ¨¸í
Chameleon
¼³Ä¡Àå¼Ò
±â°è½ÇÇ赿 206È£
Àåºñ¸í
°í¼Ó ¿ø¼ÒºÐ¼®ÀÌ °¡´ÉÇÑ Àü°è ¹æÃâÇü ÁÖ»çÀüÀÚÇö¹Ì°æ(FE-SEM with high speed EDS system)
Á¦ÀÛ»ç
JEOL LTD.
¸ðµ¨¸í
JSM-7800F Prime
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 101È£
Àåºñ¸í
3D Ç¥¸éÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(3D Optical Surface Metrology System)
Á¦ÀÛ»ç
Leica Microsystems
¸ðµ¨¸í
DCM 3D
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 216È£
Àåºñ¸í
Áø°ø ¿­ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Thermal Evaporating System)
Á¦ÀÛ»ç
DDONG High Technologies
¸ðµ¨¸í
Thermal Evaporator System
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 311È£
Àåºñ¸í
°¡½º Èñ¼® ½Ã½ºÅÛ(Computerized Gas Dilution System)
Á¦ÀÛ»ç
Environics
¸ðµ¨¸í
Series 4040
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø 311È£
Àåºñ¸í
À̿¿¬¸¶±â(Ion Milling System)
Á¦ÀÛ»ç
GL CORPORATION
¸ðµ¨¸í
PIPS1 691
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø ½ÃÆíÁغñ½Ç 312È£
Àåºñ¸í
Àú¿¡³ÊÁö À̿ ¿¬¸¶±â(Gentle Mill (Low Energy Ion Milling System))
Á¦ÀÛ»ç
TechnoOrg Linda
¸ðµ¨¸í
IV5
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø ½ÃÆíÁغñ½Ç 312È£
Àåºñ¸í
ÀüÀÚºö ÁõÂø±â(E-beam Evaporating System)
Á¦ÀÛ»ç
Korea Vacuum Tech
¸ðµ¨¸í
KVE-C300160
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
±Ý¼Ó À¯±â¹° È­Çбâ»óÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOVCD) System)
Á¦ÀÛ»ç
Jusung Eng.
¸ðµ¨¸í
Eureka 2000
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
·¹ÀÌÀú ¸®¼Ò±×·¡ÇÇ ½Ã½ºÅÛ(Laser Lithography system)
Á¦ÀÛ»ç
Heidelberg Instruments
¸ðµ¨¸í
DWL-200
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
½ºÆ®·¹½º ÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(Stress Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
FSM
¸ðµ¨¸í
500TC
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅ͸µ ½Ã½ºÅÛ(Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
SNTEK
¸ðµ¨¸í
MSS5000
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅ͸µ ½Ã½ºÅÛ(Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
AMAT
¸ðµ¨¸í
E5500
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
ÀüÀÚºö ÁõÂø±â(E-beam Evaporating System)
Á¦ÀÛ»ç
Korea Vacuum Tech
¸ðµ¨¸í
KVE-C300160
¼³Ä¡Àå¼Ò
³ª³ëÀ¶ÇÕ±â¼ú¿ø Ŭ¸°·ëµ¿ 2Ãþ Ŭ¸°·ë
Àåºñ¸í
ÃʰíÇØ»óµµ smFRET STORM À̹Ì¡ Àåºñ(Super-resolution smFRET STORM imaging system)
Á¦ÀÛ»ç
ONI
¸ðµ¨¸í
Oxford Nanoimager S
¼³Ä¡Àå¼Ò
»ý¸í°øÇבּ¸¼¾ÅÍ 253È£
Àåºñ¸í
·¹ÀÌÀú ¹Ì¼¼ ÇØºÎ ½Ã½ºÅÛ(Laser Microdissection Microscope System)
Á¦ÀÛ»ç
Carl Zeiss
¸ðµ¨¸í
PALM MicroBeam
¼³Ä¡Àå¼Ò
»ý¸í°øÇבּ¸¼¾ÅÍ 341È£
Àåºñ¸í
Ź»óÇü ¸¶ÀÌÅ©·Î¾î·¹ÀÌ ½Ã½ºÅÛ(Benchtop Microarray System)
Á¦ÀÛ»ç
GENETIX
¸ðµ¨¸í
QArray mini
¼³Ä¡Àå¼Ò
»ý¸í°øÇבּ¸¼¾ÅÍ 458È£
Àåºñ¸í
ÇÁ·£Ä« ¸®¼­Ä¡ 3 ·Îº¿ ½Ã½ºÅÛ(FRANKA RESEARCH 3 robot system)
Á¦ÀÛ»ç
Franka Robotics
¸ðµ¨¸í
Franka Research 3
¼³Ä¡Àå¼Ò
ÀΰøÁö´É¿¬±¸¿ø 142È£
Àåºñ¸í
¸ð¼Çĸó ½Ã½ºÅÛ(Motion Capture System)
Á¦ÀÛ»ç
Optitrack
¸ðµ¨¸í
OptiTrack Motion Tracking System
¼³Ä¡Àå¼Ò
ÀΰøÁö´É¿¬±¸¿ø 142È£
Àåºñ¸í
·¹ÀÌÀú ½Ã½ºÅÛ(Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
KIMMON KOHA
¸ðµ¨¸í
IK3301R-G
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1°øÇаü 206È£
Àåºñ¸í
¿¢½Ã¸Ó ·¹ÀÌÀú ½Ã½ºÅÛ(Excimer Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
LAMBDA PHYSIK AG
¸ðµ¨¸í
Compex 205
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1°øÇаü 208È£
Àåºñ¸í
LED ÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(Wafer-level LED Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
WithLight
¸ðµ¨¸í
OPI-170
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1°øÇаü 208È£
Àåºñ¸í
¹ÝµµÃ¼ Ư¼º ºÐ¼®±â(Semiconductor Characterization System)
Á¦ÀÛ»ç
KEITHLEY Instruments
¸ðµ¨¸í
4200-SCS
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1°øÇаü 208È£
Àåºñ¸í
Áø°ø ¿­ÁõÂø ½Ã½ºÅÛ(Thermal Evaporating System)
Á¦ÀÛ»ç
GD-Tech
¸ðµ¨¸í
KVT-2008L
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1°øÇаü 210È£
Àåºñ¸í
Ãʰí¼Ó µðÁöÅÐ Ä«¸Þ¶ó ÀåÄ¡(High-speed Digital Camera System)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)¾ÅÅ©·Ð
¸ðµ¨¸í
MotionPro Y7S1
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1½ÇÇ赿 314È£
Àåºñ¸í
ÀÔÀÚ ¿µ»ó À¯¼Ó°è(Particle Image Velocimetry (PIV) System)
Á¦ÀÛ»ç
TSI
¸ðµ¨¸í
MODULE4G-2DPIV
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1½ÇÇ赿 316È£
Àåºñ¸í
À̿ ũ·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ ½Ã½ºÅÛ(Ion Chromatography System)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
DIONEX ICS-2100
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦1½ÇÇ赿 318È£
Àåºñ¸í
Àç»ý ÁõÆø±â(Regenerative Amplifier System)
Á¦ÀÛ»ç
Spectra-Physics
¸ðµ¨¸í
Spitfire Ace
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦2°øÇаü 504È£
Àåºñ¸í
Çö¹Ì°æ Stage ¹× Á¶Àý ½Ã½ºÅÛ(Microscope Stage and Controller System)
Á¦ÀÛ»ç
Applied Scientific Instrumentation (ASI)
¸ðµ¨¸í
MS-2000
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 006È£
Àåºñ¸í
¿¢½Ã¸Ó ·¹ÀÌÀú ½Ã½ºÅÛ(Excimer Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
COHERENT
¸ðµ¨¸í
COMPex Pro
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 206È£
Àåºñ¸í
ÆèÅäÃÊ ÆÞ½º ·¹ÀÌÀú ½Ã½ºÅÛ(Femtosecond Pulse Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
COHERENT
¸ðµ¨¸í
Chameleon
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 502AÈ£
Àåºñ¸í
¿¢½Ã¸Ó ·¹ÀÌÀú ½Ã½ºÅÛ(Excimer Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
COHERENT
¸ðµ¨¸í
COMPex Pro 199F
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 508È£
Àåºñ¸í
´Ù¸ñÀû ¹Ú¸· Ç¥¸é±¸Á¶ ºÐ¼® ¿øÀÚ Çö¹Ì°æ Àåºñ(Muti-purpose Atomic Force Microscope (AFM) System)
Á¦ÀÛ»ç
Bruker
¸ðµ¨¸í
MultiMode 8
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦3°øÇаü 529È£
Àåºñ¸í
32ä³Î ³úÆÄ ÃøÁ¤ ½Ã½ºÅÛ(32-Channel Electroencephalogram (EEG) Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
LAXTHA
¸ðµ¨¸í
LXE3232-RF
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦4°øÇаü 005È£
Àåºñ¸í
¹«¼± ±ÙÀüµµ ½Ã½ºÅÛ(Electromyographic (EMG) and Sensor System)
Á¦ÀÛ»ç
NORAXON
¸ðµ¨¸í
TELEMYO 2400R G2
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦4°øÇаü 005È£
Àåºñ¸í
³ª³ë½Ã½º SPM Á¶Àý ½Ã½ºÅÛ(Nanonis Scanning Probe Microscopy (SPM) Control System)
Á¦ÀÛ»ç
SPECS
¸ðµ¨¸í
SPECS Nanonis Controller
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 008È£
Àåºñ¸í
Àç·á½ÃÇè±â(Nano Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
MTS
¸ðµ¨¸í
Nano UTM Testing System
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 206-1È£
Àåºñ¸í
ÆØÃ¢°è¼ö ÃøÁ¤±â(Dilatometer System)
Á¦ÀÛ»ç
ERICH NETZSCH GmbH & Co. Holdi
¸ðµ¨¸í
DIL 402C Dilatometer
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 206È£
Àåºñ¸í
¸ð¼¼°üÇü°¡¿­·Î(Capillary Furnace System)
Á¦ÀÛ»ç
Malvern Instruments
¸ðµ¨¸í
Rosand RH7
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 206È£
Àåºñ¸í
ÆèÅäÃÊ ·¹ÀÌÀú ½Ã½ºÅÛ(Femtosecond Laser System)
Á¦ÀÛ»ç
COHERENT
¸ðµ¨¸í
Libra
¼³Ä¡Àå¼Ò
Á¦5°øÇаü 406È£
Àåºñ¸í
À̿ ũ·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ ½Ã½ºÅÛ(Ion Chromatography System)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)¼¼´ÏÁ¨
¸ðµ¨¸í
Dionex Aquion IC system
¼³Ä¡Àå¼Ò
Áö°î¿¬±¸µ¿ 228È£
Àåºñ¸í
µ¿Àû ±â°èÀû¹°¼º ½ÃÇè±â(Dynamic Material Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
Dynamic Systems
¸ðµ¨¸í
GLEEBLE 3500
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 142-4È£
Àåºñ¸í
¸ÖƼ ½ºÄÉÀÏ ¹Ì¼¼±¸Á¶ ºÐ¼® ½Ã½ºÅÛ(Multi-scale Microstructure Analysis System)
Á¦ÀÛ»ç
JEOL
¸ðµ¨¸í
Neo-ARM
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 161È£
Àåºñ¸í
¿­Áß·®/¿­·® µ¿½Ã ºÐ¼®±â(Thermal Analyzer System)
Á¦ÀÛ»ç
netzsch geraetebau gmbh
¸ðµ¨¸í
STA 449C
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 178-9È£
Àåºñ¸í
µ¿Àû ±â°èÀû¹°¼º ½ÃÇè±â(Dynamic Material Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
Dynamic Systems
¸ðµ¨¸í
GLEEBLE 3500
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 242-4È£
Àåºñ¸í
ÆØÃ¢°è¼ö ÃøÁ¤±â(Dilatometer System)
Á¦ÀÛ»ç
bahr-thermoanalyse gmbh
¸ðµ¨¸í
DIL805A/D
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 242-4È£
Àåºñ¸í
Ç¥¸é󸮽ýºÅÛ(Target Surfacing System)
Á¦ÀÛ»ç
Leica Microsystems
¸ðµ¨¸í
EM TXP
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 250È£
Àåºñ¸í
TEM¿ë À̿¹иµ½Ã½ºÅÛ(Ion Milling System for Transmission Electron Microscope (TEM))
Á¦ÀÛ»ç
¢ßÁö¿¤ÄÚÆÛ·¹À̼Ç
¸ðµ¨¸í
Gatan model 691
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 284È£
Àåºñ¸í
Àç·á½ÃÇè±â(Advanced Indentation System)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)ÇÁ·Ðƽ½º
¸ðµ¨¸í
AIS2000
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 312-4È£
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅÍ / Áø°øÁõÂø ÀåÄ¡(Sputtering / Vacuum Deposition System)
Á¦ÀÛ»ç
¾ÆÀ̾¾Æ¼
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 374È£
Àåºñ¸í
±Ý¼Ó Żź ¿­Ã³¸® ½Ã½ºÅÛ(Tube Type Furnace System)
Á¦ÀÛ»ç
¢ßº£½º
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 380È£
Àåºñ¸í
µ¿Àû ±â°èÀû¹°¼º ½ÃÇè±â(Dynamic Material Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
INSTRON 8801
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 416-8È£
Àåºñ¸í
µ¿Àû ±â°èÀû¹°¼º ½ÃÇè±â(Dynamic Material Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
INSTRON 8801
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 416È£
Àåºñ¸í
µ¿Àû ±â°èÀû¹°¼º ½ÃÇè±â(Dynamic Material Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
INSTRON 8501
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 431-3È£
Àåºñ¸í
¹ü¿ë Àç·á ½ÃÇè±â(Universal Testing System)
Á¦ÀÛ»ç
INSTRON
¸ðµ¨¸í
INSTRON 3382
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 431-3È£
Àåºñ¸í
¼ö¼Ò·® ºÐ¼® ½Ã½ºÅÛ(Total Dissolved Solids (TDS) System for Hydrogen Analysis)
Á¦ÀÛ»ç
R-Dec
¸ðµ¨¸í
HTDS-003
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 435-7È£
Àåºñ¸í
¼ö¿­ÇÕ¼ºÀåºñ(500 mL Stirred Autoclave System)
Á¦ÀÛ»ç
¢ßÀϽſÀÅäŬ·¹À̺ê
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 472È£
Àåºñ¸í
½½·¡±×¿ëÇØ ¹× ³Ã°¢ÀåÄ¡(Slag Dissolution and Cooling System)
Á¦ÀÛ»ç
¸°Å×Å©
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 480È£
Àåºñ¸í
°í¿Â°¡¿­·Î(Image Furnace System)
Á¦ÀÛ»ç
ULVAC
¸ðµ¨¸í
MR-39H/D
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 546È£
Àåºñ¸í
µµ°¡´Ï ºÎÇÏ ½Ã½ºÅÛ(1600 ¡ÆC Furnace Crucible Leading System)
Á¦ÀÛ»ç
Lenton
¸ðµ¨¸í
LTF-16/75/610
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 546È£
Àåºñ¸í
À̹ÌÁö½Ã½ºÅÛ(Imaging System)
Á¦ÀÛ»ç
Dantec Dynamics A/S
¸ðµ¨¸í
Advanced Imaging System
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 572È£
Àåºñ¸í
¿ëÇØ¿ë À¯µµ°¡¿­ ÀåÄ¡(Induction Heating System for Melting)
Á¦ÀÛ»ç
PSTEK
¸ðµ¨¸í
Ư¼öÁ¦ÀÛ
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø 584È£
Àåºñ¸í
Å©¸®ÇÁ ½ÃÇè±â(Lever Arm Type Creep Tester System)
Á¦ÀÛ»ç
ats technology, Inc
¸ðµ¨¸í
Series 2320 Lever Arm Tester
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø B106È£
Àåºñ¸í
½Ç½Ã°£ X-¼± °Ë»ç±â(Realtime X-ray Inspection System)
Á¦ÀÛ»ç
¢ßÀÚºñ½º
¸ðµ¨¸í
X-Scan 7950
¼³Ä¡Àå¼Ò
ö°­´ëÇпø ´ëÇü½ÇÇ赿
Àåºñ¸í
½ºÆÛÅ͸µ ½Ã½ºÅÛ(Sputtering System)
Á¦ÀÛ»ç
¾ÆÆå½º(ÁÖ)
¸ðµ¨¸í
EOS-310(Á¦ÀÛǰ)
¼³Ä¡Àå¼Ò
Æ÷Ç×°¡¼Ó±â¿¬±¸¼Ò ÀúÀ帵µ¿ 118È£
Àåºñ¸í
RIE ½Ã½ºÅÛ(Reactive Ion Etching (RIE) System)
Á¦ÀÛ»ç
(ÁÖ)¿ïÅØ
¸ðµ¨¸í
URS-100
¼³Ä¡Àå¼Ò
Æ÷Ç×°¡¼Ó±â¿¬±¸¼Ò ÀúÀ帵µ¿ 118È£
Àåºñ¸í
Á¡Åº¼ºÃøÁ¤±â(Rheometer system)
Á¦ÀÛ»ç
Ta Instruments
¸ðµ¨¸í
DHR-20
¼³Ä¡Àå¼Ò
Æ÷Ç×½ÃÁö½Ä»ê¾÷¼¾ÅÍ wet-lab
Àåºñ¸í
¸¶ÀÌÅ©·Î¹°¼º½ÃÇè±â(Micro-scale mechanical test system)
Á¦ÀÛ»ç
CellScale
¸ðµ¨¸í
MicrotesterG2
¼³Ä¡Àå¼Ò
Æ÷Ç×½ÃÁö½Ä»ê¾÷¼¾ÅÍ wet-lab
Àåºñ¸í
X-ray ÃøÁ¤½Ã½ºÅÛ(X-ray Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
¸ðµÎÅ×Å©³î·¯Áö, ¿ìÁ¤ÀÇ·á±â±â
¸ðµ¨¸í
Varian A272
¼³Ä¡Àå¼Ò
dzµ¿µ¿ 108È£
Àåºñ¸í
Àü±âÈ­ÇÐ ºÐ¼®±â(Electrochemical Analyzer System)
Á¦ÀÛ»ç
Advanced Measurement Technology
¸ðµ¨¸í
2101A
¼³Ä¡Àå¼Ò
Çѱ¹·Îº¿À¶ÇÕ¿¬±¸¿ø 313È£
Àåºñ¸í
GC/MSD ½Ã½ºÅÛ(Gas Chromatography/Mass Selective Detector (GC/MSD) System)
Á¦ÀÛ»ç
Agilent Technologies
¸ðµ¨¸í
-/5975C
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 103/104È£
Àåºñ¸í
°í¾Ð¿ë ºÎÇÇ½Ä ÈíÂøÀåºñ ¼ö¼Ò¿¡³ÊÁö ÀúÀå·® ÃøÁ¤ ÀÚµ¿È­ Àåºñ(Volumetric Sorption Measurement System)
Á¦ÀÛ»ç
Setaram
¸ðµ¨¸í
PCT Pro
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 110È£
Àåºñ¸í
GC/MSD ½Ã½ºÅÛ(Gas Chromatography/Mass Selective Detector (GC/MSD) System)
Á¦ÀÛ»ç
Agilent Technologies
¸ðµ¨¸í
7890B/-
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 207È£
Àåºñ¸í
À̿ ũ·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ ½Ã½ºÅÛ(Ion Chromatography System)
Á¦ÀÛ»ç
Metrohm
¸ðµ¨¸í
790 Personal IC
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 230È£
Àåºñ¸í
À̿ ũ·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ ½Ã½ºÅÛ(Ion Chromatography System)
Á¦ÀÛ»ç
Dionex
¸ðµ¨¸í
ICS-2100
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 302È£
Àåºñ¸í
±¤ ¿¡³ÊÁö Àüȯ·ü ÃøÁ¤±â(Incident Photon-to-electron Conversion Efficiency (IPCE) System)
Á¦ÀÛ»ç
NEWPORT
¸ðµ¨¸í
Newport 74125
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 302È£
Àåºñ¸í
·¹¿À¹ÌÅÍ(Rheometer System)
Á¦ÀÛ»ç
TA Instruments
¸ðµ¨¸í
DHR-1
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 303È£
Àåºñ¸í
LC/MS/MS ½Ã½ºÅÛ(LC/MS/MS System)
Á¦ÀÛ»ç
Waters
¸ðµ¨¸í
Acquity HPLC System/TQ Detector
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 317
Àåºñ¸í
TFF ½Ã½ºÅÛ(Tangential Flow Filtration (TFF) System)
Á¦ÀÛ»ç
MERCK
¸ðµ¨¸í
Cogent M1 TFF System
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 331È£
Àåºñ¸í
ijÇÊ·¯¸® À̿ ũ·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ(Capillary Ion Chromatography System)
Á¦ÀÛ»ç
Thermo Scientific
¸ðµ¨¸í
Dionex ICS-5000
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 331È£
Àåºñ¸í
Àڿܼ± ÆòÇ౤ Á¶»ç ½Ã½ºÅÛ(Mask Aligner and Exposure System)
Á¦ÀÛ»ç
PROWIN
¸ðµ¨¸í
M150P
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 410È£
Àåºñ¸í
ÀÓÇÇ´ø½º ÃøÁ¤Àåºñ(Impedance Analyzer System)
Á¦ÀÛ»ç
BioLogic
¸ðµ¨¸í
VSP-300
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 412È£
Àåºñ¸í
ÀÓÇÇ´ø½º ÃøÁ¤Àåºñ(Impedance Analyzer System)
Á¦ÀÛ»ç
BioLogic
¸ðµ¨¸í
VSP-300
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 412È£
Àåºñ¸í
GC/MSD ½Ã½ºÅÛ(Gas Chromatography/Mass Selective Detector (GC/MSD) System)
Á¦ÀÛ»ç
Agilent Techonologies
¸ðµ¨¸í
7890B/5977B
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 412È£
Àåºñ¸í
ÇÙ»ê ÃßÃâ±â(Auto Nucleic Acid Preparation System)
Á¦ÀÛ»ç
Precision System Science
¸ðµ¨¸í
Magtration System 12GC
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 414È£
Àåºñ¸í
À̿ ũ·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ ½Ã½ºÅÛ(Ion Chromatography System)
Á¦ÀÛ»ç
Dionex
¸ðµ¨¸í
ICS-1100
¼³Ä¡Àå¼Ò
ȯ°æ°øÇе¿ 417È£
»ç¿ëÁ¤º¸
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ÀÚ»êÁ¤º¸
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\ 1,822,333,336
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2007-02-23
ÂüÁ¶»çÇ×
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