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원자층 증착기(Atomic Layer Deposition (ALD))

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장비공지
Equip. Notice 장비공지
Equipment Notice

기본정보
설비번호	10141804
장비명(한글)	원자층 증착기
장비명(영문)	Atomic Layer Deposition (ALD)
제작사	CN1
모델명	Atomic-Basic
상세정보
장비사양	Compact ALD Model Thermal ALD Wafer Size : ≤ 6″ Wafer Process temperature : up to 250°C Applications : Oxide Film(Al₂O₃), etc Very small Volume for process
활용분야	Al2O3 산화막 증착
장비운영인력
설치장소	RIST1동 1139호
소속	물리학과
성명	이길호
전화	054-279-2064
이메일	lghman@postech.ac.kr
동일/유사장비정보
장비명	원자간력 현미경(Atomic Force Microscope (AFM))
제작사	Park Systems
모델명	XE7
설치장소	C5 228호

장비명	패럴린 증착기(Parylene Deposition System)
제작사	오방테크놀로지
모델명	OBT-PC300
설치장소	C5 329호

장비명	펄스 레이저 증착 시스템(Pulsed Laser Deposition (PLD) System)
제작사	한빛레이저
모델명	GPPA-A377
설치장소	C5 329호

장비명	원료 증착 시스템(Materials Deposition System with Piezoelectric Inkjet Catridge)
제작사	FUJIFILM
모델명	Dimatix DMP-2850
설치장소	C5 329호

장비명	패럴린 증착기(Parylene Deposition System)
제작사	Specialty Coating Systems (SCS) - A KISCO Company
모델명	PDS Labcoter 2 (PDS 2010 LABCOTER)
설치장소	C5 720-1호

장비명	원자간력 현미경(Atomic Force Microscope (AFM))
제작사	Park Systems
모델명	XE7
설치장소	RIST1동 1139호

장비명	원자간력 현미경(Atomic Force Microscope (AFM))
제작사	Bruker
모델명	Dimension Icon with ScanAsyst
설치장소	RIST1동 1152호

장비명	원자 흡수 분광기(Atomic Absorption Spectrometer (AAS))
제작사	Analytik Jena
모델명	contrAA 800
설치장소	RIST1동 1309호

장비명	열 화학 기상 증착 장치(Thermal Chemical Vapor Deposition (CVD) System)
제작사	SNTEK
모델명	TCS5000
설치장소	RIST3동 3104호

장비명	플라즈마 원자층 증착 시스템(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PE-ALD) System)
제작사	ForALL
모델명	OZONE
설치장소	RIST3동 3223호

장비명	펄스 레이저 증착 시스템(Pulsed Laser Deposition (PLD) System)
제작사	HIGGSLAB
모델명	PLD SYSTEM
설치장소	RIST3동 3263호

장비명	펄스 레이저 증착 시스템(Pulsed Laser Deposition (PLD) System)
제작사	COHERENT
모델명	COMPex Pro 102 F
설치장소	RIST3동 3282호

장비명	X-선광전자분광분석기(XPS xonnectable Deposition system)
제작사	ULVAC-PHI, Inc.
모델명	PHI GENESIS Multi-tech Scanning XPS
설치장소	RIST3동 3360/3362호

장비명	원자간력 현미경(Atomic Force Microscope (AFM))
제작사	Veeco
모델명	Dimension 3100
설치장소	나노융합기술원 1층 101호

장비명	유기물 증착기(Organic Molecular Beam Deposition (OMBD) & Thermal Evaporator)
제작사	alpha-plus
모델명	OMBD & Thermal
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	금속 유기물 화학기상증착 시스템(Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOVCD) System)
제작사	Jusung Eng.
모델명	Eureka 2000
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	원자층 증착기(Atomic Layer Deposition (ALD))
제작사	QUROS
모델명	Plus 200
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	저압 화학증착장치(퍼니스 타입)(Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LP-CVD; Furnace Type))
제작사	(주)유진테크
모델명	BJM100
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	플라즈마 화학 기상 증착기(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD))
제작사	아텍시스템
모델명	UF-CVD 200
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	상압 화학기상증착법(Atmosphere Pressure Chemical Vapor Deposition (APCVD))
제작사	Watkins Johnson
모델명	WJ-1000T
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	탄소나노튜브 합성 CVD(Carbon Nanotube (CNT) Synthesis Chemical Vapor Deposition (CVD))
제작사	아텍시스템
모델명	-
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	플라즈마 화학 기상 증착기(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD))
제작사	BMR Technology Co.
모델명	HiDep-SC
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	보호막용 플라즈마 화학 기상 증착기(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD) for Passivation)
제작사	TES
모델명	TELIA200
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	플라즈마 화학 기상 증착기(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD))
제작사	Korea Vacuum Tech
모델명	KVPED-T0583
설치장소	제1공학관 210호

장비명	다목적 박막 표면구조 분석 원자 현미경 장비(Muti-purpose Atomic Force Microscope (AFM) System)
제작사	Bruker
모델명	MultiMode 8
설치장소	제3공학관 529호

장비명	원자간력 현미경(Atomic Force Microscope (AFM))
제작사	SEIKO INSTRUMENTS INC.
모델명	SPI3800N Pro
설치장소	제5공학관 206-1호

장비명	스퍼터 / 진공증착 장치(Sputtering / Vacuum Deposition System)
제작사	아이씨티
모델명	특수제작
설치장소	철강대학원 374호

사용정보
장비오픈여부	X
자율사용여부	X
사용료	-
자산정보
취득금액	\ 49,500,000
취득일	2018-07-20
참조사항
첨부파일
URL	http://www.cn-1.co.kr/
키워드
Al2O3, Deposition