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상압 화학기상증착법(Atmosphere Pressure Chemical Vapor Deposition (APCVD))

장비정보
Equipment InformationEquip. Info.

장비공지
Equip. Notice 장비공지
Equipment Notice

기본정보
설비번호	10072072
장비명(한글)	상압 화학기상증착법
장비명(영문)	Atmosphere Pressure Chemical Vapor Deposition (APCVD)
제작사	Watkins Johnson
모델명	WJ-1000T
상세정보
장비사양	TEOS systems deposit doped or undoped silicon dioxide(SiO2) films, created from the TEOS/Ozone CVD reation.
활용분야	The film applications include shallow trench isolation, capacitor ILD, Bitline ILD, Gate ILD, Sidewall spacer, PSG passivation, IMD gap fill and capacitor core oxides.
장비운영인력
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸
소속	나노융합기술원
성명	이정익
전화	054-279-0267
이메일	kb3000@postech.ac.kr
동일/유사장비정보
장비명	진공 열증착 시스템(Thermal Evaporating System)
제작사	대동하이텍
모델명	DD-GT103R
설치장소	C5 329호

장비명	패럴린 증착기(Parylene Deposition System)
제작사	오방테크놀로지
모델명	OBT-PC300
설치장소	C5 329호

장비명	펄스 레이저 증착 시스템(Pulsed Laser Deposition (PLD) System)
제작사	한빛레이저
모델명	GPPA-A377
설치장소	C5 329호

장비명	원료 증착 시스템(Materials Deposition System with Piezoelectric Inkjet Catridge)
제작사	FUJIFILM
모델명	Dimatix DMP-2850
설치장소	C5 329호

장비명	패럴린 증착기(Parylene Deposition System)
제작사	Specialty Coating Systems (SCS) - A KISCO Company
모델명	PDS Labcoter 2 (PDS 2010 LABCOTER)
설치장소	C5 720-1호

장비명	전자빔 증착기(E-beam Evaporating System)
제작사	TEMESCAL/BOC COATING TECH
모델명	BDJ 1800
설치장소	LG연구동 110호

장비명	대기조절배양작업대(Modular Atmosphere Control Workstation System)
제작사	Don Whitley Scientific
모델명	Don Whitley Scientific A55
설치장소	PBC 362호

장비명	원자층 증착기(Atomic Layer Deposition (ALD))
제작사	CN1
모델명	Atomic-Basic
설치장소	RIST1동 1139호

장비명	전자빔 증착기(E-beam Evaporating System)
제작사	Telemark
모델명	246-28
설치장소	RIST1동 1145호

장비명	전자빔 증착기(E-beam Evaporating System)
제작사	Selcos
모델명	Cetus-E
설치장소	RIST3동 3104호

장비명	열 화학 기상 증착 장치(Thermal Chemical Vapor Deposition (CVD) System)
제작사	SNTEK
모델명	TCS5000
설치장소	RIST3동 3104호

장비명	진공 열증착 시스템(Thermal Evaporating System)
제작사	TERALEADER
모델명	TLP1001
설치장소	RIST3동 3139호

장비명	전자빔 증착기(E-beam Evaporating System)
제작사	iNFOVION
모델명	-
설치장소	RIST3동 3147호

장비명	플라즈마 원자층 증착 시스템(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PE-ALD) System)
제작사	ForALL
모델명	OZONE
설치장소	RIST3동 3223호

장비명	펄스 레이저 증착 시스템(Pulsed Laser Deposition (PLD) System)
제작사	HIGGSLAB
모델명	PLD SYSTEM
설치장소	RIST3동 3263호

장비명	펄스 레이저 증착 시스템(Pulsed Laser Deposition (PLD) System)
제작사	COHERENT
모델명	COMPex Pro 102 F
설치장소	RIST3동 3282호

장비명	X-선광전자분광분석기(XPS xonnectable Deposition system)
제작사	ULVAC-PHI, Inc.
모델명	PHI GENESIS Multi-tech Scanning XPS
설치장소	RIST3동 3360/3362호

장비명	진공 열증착 시스템(Vacuum Thermal Evaporating System)
제작사	WOOSUNG HI-VAC
모델명	-
설치장소	RIST3동 3363호

장비명	진공 열증착 시스템(Thermal Evaporating System)
제작사	DDONG High Technologies
모델명	Thermal Evaporator System
설치장소	나노융합기술원 311호

장비명	전자빔 증착기(E-beam Evaporating System)
제작사	Korea Vacuum Tech
모델명	KVE-C300160
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	유기물 증착기(Organic Molecular Beam Deposition (OMBD) & Thermal Evaporator)
제작사	alpha-plus
모델명	OMBD & Thermal
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	금속 유기물 화학기상증착 시스템(Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOVCD) System)
제작사	Jusung Eng.
모델명	Eureka 2000
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	원자층 증착기(Atomic Layer Deposition (ALD))
제작사	QUROS
모델명	Plus 200
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	전자빔 증착기(E-beam Evaporating System)
제작사	Korea Vacuum Tech
모델명	KVE-4000
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	저압 화학증착장치(퍼니스 타입)(Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LP-CVD; Furnace Type))
제작사	(주)유진테크
모델명	BJM100
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	플라즈마 화학 기상 증착기(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD))
제작사	아텍시스템
모델명	UF-CVD 200
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	탄소나노튜브 합성 CVD(Carbon Nanotube (CNT) Synthesis Chemical Vapor Deposition (CVD))
제작사	아텍시스템
모델명	-
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	플라즈마 화학 기상 증착기(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD))
제작사	BMR Technology Co.
모델명	HiDep-SC
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	전자빔 증착기(E-beam Evaporating System)
제작사	Korea Vacuum Tech
모델명	KVE-C300160
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	보호막용 플라즈마 화학 기상 증착기(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD) for Passivation)
제작사	TES
모델명	TELIA200
설치장소	나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸

장비명	플라즈마 화학 기상 증착기(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD))
제작사	Korea Vacuum Tech
모델명	KVPED-T0583
설치장소	제1공학관 210호

장비명	진공 열증착 시스템(Thermal Evaporating System)
제작사	GD-Tech
모델명	KVT-2008L
설치장소	제1공학관 210호

장비명	진공-가압 용해 및 연속주조장치(Vacuum-over Pressure Continuous Casting Machine)
제작사	㈜케이에이엠아이
모델명	VCC 1000 (indutherm)
설치장소	철강대학원 272호

장비명	스퍼터 / 진공증착 장치(Sputtering / Vacuum Deposition System)
제작사	아이씨티
모델명	특수제작
설치장소	철강대학원 374호

장비명	전기화학 분석기(Electrochemical Analyzer System)
제작사	Advanced Measurement Technology
모델명	2101A
설치장소	한국로봇융합연구원 313호

사용정보
장비오픈여부	○
자율사용여부	X
사용료	400,000원/Lot(25매)
자산정보
취득금액	\ 55,000,000
취득일	2009-01-20
참조사항
첨부파일
URL
키워드
AP, CVD, TEOS, PSG, SiO2, ILD, IMD