 기본정보 |
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설비번호 |
10005233 |
장비명(한글) |
 자외선 평행광 조사 시스템
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장비명(영문) |
Mask Aligner |
제작사 |
KARL SUSS KG-GMBH |
모델명 |
MJB 3 |
| 상세정보 |
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장비사양 |
- 회절 현상을 최소화 해주는 고해상 광학시스템 - 0.5μm까지 구현 가능한 고해상 프린팅 - 최대 마스크 크기: 5” x 5” - 최대 마스크 두께: 5mm - 표준 노광 범위: Ø 100mm (추가항목 100 x 100mm) - 최대 substrate 두께: 4mm - Top side alignment을 위한 single field 또는 split field 현미경 - Transmitted light 또는 Incident light 을 이용한 IR alignment 가능 |
활용분야 |
소자 제작 과정에서 원하는 부분 METAL DEPOSITION 및 ISOLATION 에 활용 |
| 장비운영인력 |
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설치장소 |
제1공학관 206호 |
소속 |
신소재공학과 |
성명 |
이종람 |
전화 |
054-279-2152 |
이메일 |
jllee@postech.ac.kr |
| 동일/유사장비정보 |
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장비명 |
자외선 평행광 조사 시스템(Mask Aligner and Exposure System) |
제작사 |
MIDAS SYSTEM |
모델명 |
MDA-400M |
설치장소 |
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장비명 |
마스크리스 레이저 리소그래피(Maskless Laser Lithography, MLA150) |
제작사 |
주식회사나우 |
모델명 |
MLA150 |
설치장소 |
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장비명 |
자외선 평행광 조사 시스템(Mask Aligner) |
제작사 |
(주)신코 |
모델명 |
MA6 |
설치장소 |
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장비명 |
마스크 정렬기(Mask Aligner) |
제작사 |
SUSS MICROTEC LITHOFAOPHY GMBH |
모델명 |
MA8 |
설치장소 |
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장비명 |
자외선 평행광 조사 시스템(Mask Aligner and Exposure System) |
제작사 |
PROWIN |
모델명 |
M150P |
설치장소 |
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| 사용정보 |
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장비오픈여부 |
○ |
자율사용여부 |
X |
사용료 |
회당 60,000원 |
| 자산정보 |
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취득금액 |
\ 149,831,818 |
취득일 |
1998-04-10 |
| 참조사항 |
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첨부파일 |
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URL |
https://www.suss.com/en |
| 키워드 |
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| Aligner, Mask, Photo resist, PR, UV | |
