 기본정보 |
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설비번호 |
10048177 |
장비명(한글) |
 자외선 평행광 조사 시스템
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장비명(영문) |
Mask Aligner |
제작사 |
(주)신코 |
모델명 |
MA6 |
| 상세정보 |
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장비사양 |
- 300mm 와 200mm wafer 공정용 - AGV & OHT access, FOUP, open cassette, SECS II / GEM, cassette ID reader, bar code reader 등 적용 가능 - I/O: Brooks Automation (최대 4개) 장착 가능 - 패턴 해상도: 최소 5μm, 3μm (HR 광학계 사용 시) - 정렬 방식: 높은 정밀도에 기초하여 자동 및 수동 정렬 가능 - 정렬 정확도: 1.5μm, 0,5μm with Direct-Align - Large Clearfield 가능 - ThermAlign Chuck: 가능 - Throughput: > 100 W/h - Full-field intensity: ~90 mW/cm2 - Intensity scanner : 사용 가능 - Constant Dose: 정밀도 < 1.5% - 마스크 장착 : 자동 로딩 가능 - Mask stocker: 최대 10개까지 가능 - GUI: Windows-NT - ACS300Plus와의 구성가능 (추가사항) |
활용분야 |
UV노광, 6&4 조각 및 BSA가능 |
| 장비운영인력 |
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설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸 |
소속 |
나노융합기술원 |
성명 |
김동현 |
전화 |
054-279-0237 |
이메일 |
best820@postech.ac.kr |
| 동일/유사장비정보 |
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장비명 |
자외선 평행광 조사 시스템(Mask Aligner and Exposure System) |
제작사 |
MIDAS SYSTEM |
모델명 |
MDA-400M |
설치장소 |
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장비명 |
마스크리스 레이저 리소그래피(Maskless Laser Lithography, MLA150) |
제작사 |
주식회사나우 |
모델명 |
MLA150 |
설치장소 |
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장비명 |
마스크 정렬기(Mask Aligner) |
제작사 |
SUSS MICROTEC LITHOFAOPHY GMBH |
모델명 |
MA8 |
설치장소 |
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장비명 |
자외선 평행광 조사 시스템(Mask Aligner) |
제작사 |
KARL SUSS KG-GMBH |
모델명 |
MJB 3 |
설치장소 |
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장비명 |
자외선 평행광 조사 시스템(Mask Aligner and Exposure System) |
제작사 |
PROWIN |
모델명 |
M150P |
설치장소 |
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| 사용정보 |
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장비오픈여부 |
○ |
자율사용여부 |
○ |
사용료 |
직접이용 : 60,000원/매, 서비스 : 80,000원/매 |
| 자산정보 |
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취득금액 |
\ 210,485,235 |
취득일 |
2007-01-26 |
| 참조사항 |
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첨부파일 |
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URL |
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| 키워드 |
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| Mask Aligner, Mask, Aligner | |
