 기본정보 |
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설비번호 |
10066176 |
장비명(한글) |
 극자외선 청정장치
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장비명(영문) |
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography |
제작사 |
(주)씨엔디플러스 |
모델명 |
Track |
| 상세정보 |
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장비사양 |
Thickness range : 100 Å ~ 35 ㎛ |
활용분야 |
극자외선을 이용한 규칙적인 패턴의 제작 |
| 장비운영인력 |
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설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸 |
소속 |
나노융합기술원 |
성명 |
김동현 |
전화 |
054-279-0237 |
이메일 |
best820@postech.ac.kr |
| 동일/유사장비정보 |
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장비명 |
마스크리스 레이저 리소그래피(Maskless Laser Lithography, MLA150) |
제작사 |
주식회사나우 |
모델명 |
MLA150 |
설치장소 |
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장비명 |
리소그래피(Lithography) |
제작사 |
엘리오닉스 |
모델명 |
ELS-7000 |
설치장소 |
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장비명 |
레이저 리소그래피 시스템(Laser Lithography system) |
제작사 |
Heidelberg Instruments |
모델명 |
DWL-200 |
설치장소 |
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| 사용정보 |
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장비오픈여부 |
○ |
자율사용여부 |
○ |
사용료 |
기본료 100,000 장/40,000 |
| 자산정보 |
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취득금액 |
\ 273,900,000 |
취득일 |
2008-04-04 |
| 참조사항 |
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첨부파일 |
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URL |
http://cndplus.com/ |
| 키워드 |
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| Coating, Developer, Photo Resist | |
