 기본정보 |
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설비번호 |
10073621 |
장비명(한글) |
 중전류 이온주입장치
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장비명(영문) |
Medium Current Implanter |
제작사 |
Varian |
모델명 |
E220HP |
| 상세정보 |
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장비사양 |
DOPANT(AMU) Ar(40) P(31) B(11) DOSE(min-max) 2E12~1E16 / 1E12~1E16 / 5E11~1E15 Energy Range(min-max) 30~200keV |
활용분야 |
고노동 불순물 주입 |
| 장비운영인력 |
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설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸 |
소속 |
나노융합기술원 |
성명 |
황현주 |
전화 |
054-279-0226 |
이메일 |
hjh81@postech.ac.kr |
| 동일/유사장비정보 |
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장비명 |
고전류 임플란터(High-Current Implantor) |
제작사 |
Applied Materials |
모델명 |
VIISion200 |
설치장소 |
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| 사용정보 |
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장비오픈여부 |
X |
자율사용여부 |
X |
사용료 |
100,000원/시료 (기본료: 300,000원/시료) |
| 자산정보 |
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취득금액 |
\ 1,000 |
취득일 |
2009-03-11 |
| 참조사항 |
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첨부파일 |
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URL |
http://www.appliedmaterials.com/ko |
| 키워드 |
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| Implanter, 이온주입, B11, As75, Ph31, Ar39 | |
