 기본정보 |
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설비번호 |
10072073 |
장비명(한글) |
 급속 열처리 장치
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장비명(영문) |
RTP |
제작사 |
(주)하이닉스반도체 |
모델명 |
AST2800 |
| 상세정보 |
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장비사양 |
Only 8 |
활용분야 |
RTO, 급속열처리, HIGH-K 후처리 |
| 장비운영인력 |
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설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸 |
소속 |
나노융합기술원 |
성명 |
황현주 |
전화 |
054-279-0226 |
이메일 |
hjh81@postech.ac.kr |
| 동일/유사장비정보 |
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장비명 |
실리사이드용 급속 열처리 장치(Silicide RTP) |
제작사 |
(주)하이닉스반도체 |
모델명 |
AST2800 |
설치장소 |
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| 사용정보 |
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장비오픈여부 |
○ |
자율사용여부 |
○ |
사용료 |
1매 기준 / 직접사용 : 400,000 / 서비스 : 50,000 |
| 자산정보 |
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취득금액 |
\ 99,000,000 |
취득일 |
2009-01-20 |
| 참조사항 |
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첨부파일 |
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URL |
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| 키워드 |
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| activation anneal, O2, 급속열처리, High-k후처리 | |
