 기본정보 |
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설비번호 |
10072071 |
장비명(한글) |
 고전류 임플란터
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장비명(영문) |
High-Current Implantor |
제작사 |
Applied Materials |
모델명 |
VIISion200 |
| 상세정보 |
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장비사양 |
Only 8 |
활용분야 |
고농도, 얕은 깊이의 불순물 주입 |
| 장비운영인력 |
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설치장소 |
나노융합기술원 클린룸동 2층 클린룸 |
소속 |
나노융합기술원 |
성명 |
황현주 |
전화 |
054-279-0226 |
이메일 |
hjh81@postech.ac.kr |
| 동일/유사장비정보 |
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장비 |
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제작사 |
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모델명 |
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설치장소 |
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| 사용정보 |
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장비오픈여부 |
○ |
자율사용여부 |
X |
사용료 |
기본료 : 400,000 / 장당 : 200,000 |
| 자산정보 |
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취득금액 |
\ 418,000,000 |
취득일 |
2009-01-20 |
| 참조사항 |
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첨부파일 |
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URL |
http://www.appliedmaterials.com/ko |
| 키워드 |
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| DOPANT(AMU), As(75), P(31), B(11),BF2(49), DOSE(min-max), 1E13~5E16, 1E13~5E16, 2E12~3E15 | |
